中古 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #9127707 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8フォトレジスト装置は、マイクロエレクトロニクス業界における精密なナノスケールのリソグラフィ加工を必要とする人々のための強力なツールです。薄い電子部品を多種多様な基板にエッチングできるように設計されています。このユニットは、400ナノメートルまでのサイズの特徴を正確にエッチングすることができます。フォトマスクを使用してウェーハを抵抗光から保護することにより、基板上の要素を正確に定義することができます。TEL ACT 8フォトレジストツールには、ウエハハンドラ、ユニファイドデジタルマイクロミラー（DMD）、独自の2次元（2D）イメージングソフトウェアの3つの主要コンポーネントがあります。ウエハハンドラはアセットの主成分であり、ウエハー基板の安全な取り扱いを担っています。基板全体に均一なエッチングを確保するために、一定の温度を維持するためのサーマルチャックを装備しています。さらに、ウェハハンドラには、自動スキャンモデルとZ高さスキャンモデルの両方を備えた特殊な光学系が搭載されています。統合されたDMDは、プログラムされたマスキングに使用される高度なコンポーネントです。透明光学部品と2次元イメージング部品の2つの別々の部品が含まれています。1番目のコンポーネントはナノメートルの精度で非常に高速な分解能を提供し、2番目のコンポーネントは露光中の位相集中安定性を保証します。この機構により、基板の均一で正確なエッチングが保証されます。TOKYO ELECTRON ACT 8フォトレジスト機器の最終的な部分は、独自の2Dイメージングソフトウェアです。このソフトウェアは、microlITHOスクリプトによる正確なイメージングを可能にします。これは、デバイスのマスクの設計と精製に使用される強力なツールです。また、画像やエッチング中に画像を調整して完璧なデザインを保証できる自動補正機能も備えています。TEL ACT 8フォトレジストシステムは、以前のシステムよりも多くの利点を提供しています。ナノスケールの解像度と自動化されたイメージング能力により、ナノスケールのリソグラフィや超薄型部品や基板の製造に最適です。これにより、機械はさまざまな材料でマイクロエレクトロニクスを生産するための強力なツールになります。さらに、独自の2次元（2D）ソフトウェアにより、正確なイメージングとmicrolITHOスクリプトを使用して完璧な設計を保証できます。