中古 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9402603 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12フォトレジスト装置は、半導体ウェハの製造に使用されるリソグラフィックシステムです。このユニットは、フォトレジストと呼ばれる光に敏感なフィルムを使用して、ウェーハの表面を化学的に修正します。紫外線（UV）光を使用してフォトレジストに選択的に影響を与え、ウェーハ表面にパターン化されたレイヤーを作成できます。TEL ACT 12マシンは、光源、制御ツール、レジストアプリケーター、ステージの4つの主要コンポーネントで構成されています。光源はランプとライトガイドを使用して、ウェーハの表面に紫外線を均等に当てます。アセットの制御モデルには、光強度を制御するためのプログラム可能な方法、ソフトウェア制御のタイミングモッドなど、いくつかの制御機能が含まれています。レジストアプリケータは、ウェーハにフォトレジストをコーティングし、フィルムの厚さを制御します。ステージは、UV光が表面全体を覆うようにウェーハを正確に動かすために使用されます。TOKYO ELECTRON ACT12装置のUV光を集光し、ウェーハ上に単層と多層の両方のデザインを作成することができます。ミクロンスケールの特徴を持つマイクロチップから、薄い分子層まで、幅広いデバイス設計が可能です。さらに、高度な制御システムは、レジストの均一な蒸着を確保するための高精度を提供します。ACT12ユニットでは、自動パターン認識（APR）やオートフォーカス補正などの高度な機能を使用して、精度と精度を確保しています。APRは、UV光源の「露出」段階で生じたパターンの変化を検出するセンシングデバイスを使用する方法です。オートフォーカス補正（Autofocus Correction）とは、紫外線レベルの小さな偏差を補正するアルゴリズムであり、ウェーハ全体に均一なパターンをもたらします。結論として、東京エレクトロンアクト12フォトレジストマシンは、半導体ウェーハ加工に使用される強力なツールです。UV光源、レジストアプリケーター、高度な制御ツールを使用して、均一で正確なパターンを作成します。APRとオートフォーカス補正により、信頼性が高く効率的な操作が可能になり、複雑なデバイスの製造が可能になります。