中古 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9313699 を販売中
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ID: 9313699
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2004
System, 12"
Wafer type: Notch
Right to left
Loading configuration: (4) Loaders
Cassette type: FOUP
Main controller missing
Main system:
Mainframe with system controller
(4) Cassettes
(25) Slots
Coater unit (2-1, 2-2 Modules):
(4) Dispense nozzles with temperature controlled lines
RDS Pump
PR Suck-back valve: (8) Auto suck-back valves
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for etch unit
Rinse system: 3-Liters (2) buffer tank systems
Thinner supply: CCSS
Programmable side rinse:
(4) PR Nozzles
(8) Bottles: (2) Bottles / (2) Nozzles
BCT Unit (2-3,2-4 Modules):
(4) Dispense nozzles with temperature controlled line
RDS Pump
PR Suck-back valve: (8) Auto suck-back valves
Rinse nozzle: Back / EBR / Solvent bath for each unit
Rinse system: 3-Liters (2) buffer tank systems
Thinner supply: CCSS Canister tank
Developer unit (3-1, 3-2, 3-3, 3-4 Modules):
NLD Nozzle / Unit
(2) System nozzles for DI rinse
2-Points for back side rinse
Developer system: 3-Liter (2) buffer tank systems
Developer supply: CCSS
Developer temperature control system
ASML I/F Wafer stage
(2) Adhesion units (ADH):
Sealing closed chamber with Built-in hot plate
HMDS Tank with float sensor
HMDS Supply: Local bottle
(4) Low temperature Hot Plates (LHP)
(3) High temperature Hot Plates (HHP)
(9) Chill plates (TCP)
(12) Precision Hot Plates (PHP)
(2) TRS Units
(2) Wafer Edge Exposure (WEE) Units
(2) Temperature Control Units (TCU)
OEM Type
Temperature control units (TCU) MFC controller
Chemical cabinets:
Cabinet 1: HNDS And solvent cabinet
Cabinet 2: DEV Solution chemical cabinet
Missing parts:
Main controller
T and H Controller
AC Power supply: 200/220 VAC, 668 A (Full-load Ampere)
2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12はTELが設計したフォトレジスト加工装置です。微細加工および半導体デバイス製造プロセスに使用されます。このシステムでは、フォトリソグラフィープロセスを使用して、目的のフィーチャーをウェーハにパターン化し、金属層にエッチングします。このプロセスは、紫外線に敏感なフォトレジスト層をパターンにさらすことを含みます。光にさらされている領域は硬くなり、残りの領域は溶けています。ハードリージョンはエッチングマスクとして機能し、ウェハはフォトレジスト層によって形成されたパターンを使用してエッチングされます。TEL ACT 12は、正確で再現性のあるパターン形成プロセスを提供します。0。25ミクロンの高解像度で、フィールドサイズは5mmです。ユニットはまた、複雑なパターンを形成することができ、単一のパスでダブルレベルの露出サイクルを実行することができます。このマシンはモジュール性と柔軟性を念頭に置いて設計されており、その機能を強化するためにツールに追加できるさまざまなオプション機能を提供しています。また、東京エレクトロンACT12は露光時間が速く、ウェーハあたりの露光時間はわずか2秒です。これにより、ウェーハの高スループットを短時間で処理することができます。また、東京エレクトロンアクト12はリニアスキャン技術を使用して、基板全体に均一なUV光を確保しています。これにより、よりスムーズで正確に定義されたフィーチャーを形成することができます。さらに、アセットには、関連するすべての露出パラメータを含むオンボードコンピュータがあり、ユーザーのニーズに合わせてカスタマイズできます。ACT 12は、微細加工および半導体デバイス製造プロセスにおいて信頼性が高く効率的なツールです。高解像度、高速露光時間、高スループット、柔軟なモデル設計、およびUVリニアスキャンにより、業界の専門家に最適です。
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