中古 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 12 #9237246 を販売中

ID: 9237246
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2003
System, 12" 2003 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 12は、ナノスケール構造を作成するためのイメージングとパターニング技術を活用したフォトレジスト機器です。このシステムは、半導体ウェーハに約0。1マイクロメートル幅の集光ビームを投影することができるビームプロジェクションオプティクスを使用しています。この光は、ナノスケールのレベルで構造を形成するフォトレジスト材料にパターンをエッチングするために使用されます。TEL ACT 12は、短い焦点範囲と高い光学数値開口を組み合わせた製品です。また、特許出願中のレーザーライトイメージングプロセスを使用して、ナノスケールでパターンを作成します。このプロセスは、非常に集中し、非常に低い発散を有するレーザービームを使用しているため、ナノメートルスケールで例外的な分解能を可能にします。また、パターン最適化のための高度な編集ツールを備えた高度な制御ツールを提供し、半導体デバイスの生産を大幅に向上させます。このプラットフォームは高い精度でパターン最適化を提供し、チップの正確な仕様に合わせてナノスケール構造を構築することができます。また、東京エレクトロンACT12は、高度な基板アライメントアセットを備えており、フォトレジスト構造の制御配置に高い精度を提供します。これにより、ウェーハ上の構造とコンポーネントを正確に配置することができ、また、ナノスケール構造のアライメントまたは収差のエラーも低減します。また、先進的なイメージング機器も搭載しています。TEL/TOKYO ELECTRON ACT12で使用される光学系は、15ナノメートルの解像度で画像を投影することができ、ナノスケール構造の製造プロセスを監視することができます。最後に、TEL ACT12は信頼性が高く、繰り返し可能なワークフロー・プロセスを提供します。このユニットは、ワークフロープロセス全体を制御できる信頼性の高いTerapro Engineを搭載しています。Teraproエンジンは、イメージングステップごとに正確で信頼性の高い一連のイベントを提供し、一貫した信頼性の高いイメージングプロセスを確保し、生産プロセスのエラーを低減します。
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