中古 TAIWAN UYEMURA AELPE-1206 #293607136 を販売中

TAIWAN UYEMURA AELPE-1206
ID: 293607136
ウェーハサイズ: 2"-6"
Plating system, 2"-6".
TAIWAN UYEMURA AELPE-1206は、高度なフォトレジスト機器です。プリント基板などの基板やその他の回路部品に適用される液体ケミカルコーティングを採用しています。この液体には正または負のフォトレジスト分子が含まれており、特定の光源への暴露によって選択的に誘発される。光源によってフォトレジスト分子が活性化されると、基板の露出した部分をエッチングするか、保護コーティングを形成する化学変化が起こります。これにより、微細な金属層を高精度に基板上に堆積させることができます。このユニットは非常に正確であるように設計されており、高い精度と解像度で非常に複雑な設計を行うことができます。photoresist機械はいろいろな適用で使用されます、 プリント基板の回路作成、金属およびプラスチックの機械化を含んで、 医療機器の製造、さらには複雑なアート作品を作成します。このツールは、いくつかのコンポーネントで構成されています。 これには、フォトレジストユニット、溶液タンク、および基板周辺のフォトレジストの露出のための光源が含まれます。フォトレジストユニットは通常、不揮発性液体であり、濃縮された形で調製するか、溶媒で希釈することができます。それは波長の点で光に応答し、したがって特定の光源に一致する必要があります。光源は、紫外線、LEDライト、または露出に使用される青色光から何でもできます。フォトレジストの感度や希望するデザインによって、露光量が大きく異なることがあります。フォトレジストの一貫性を保つためには、ソリューションタンクを定期的に洗浄して補充する必要があります。不純物や汚染物質はフォトレジストに深刻な損傷を与え、基板の意図しないエッチングを引き起こす可能性があります。安全面では、AELPE-1206は安全に使用できるように設計されています。アセットで使用される光源は、低出力で国際的な安全基準に準拠するように設計されています。フォトレジスト自体は、非毒性および非刺激性の化学溶液であるようにも配合されています。TAIWAN UYEMURA AELPE-1206は、高精度で高精度なフォトレジストモデルです。適切な光源とフォトレジストソリューションを活用することで、様々な基板上に高い精度と解像度で複雑なパターンを作成することができます。このシステムは数多くのアプリケーションで使用され、安全に使用できるように設計されています。
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