中古 SVG / ASML 90S #9032372 を販売中
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販売された
ID: 9032372
Coater / Developer track system, 8"
Wafer Size: 200mm, notched, System on floor
Right hand only unit
104” Stand-Alone Cabinet
2 Coat Modules w/chemical edge bead removal, 2 Develop
Modules, 6 Vacuum Back Ovens, 2 Vapor Prime Ovens, 3 chill
Plates, 1 OEBR Module
Photoresist Temperature control
Air Temperature and Humidity control(Coater and Developer)
Complete air recirculation environmental control over all modules
4 serial arms and 1 90SE serial arm
Floor is solid SS spill containment w/overflow sensors
Solid doors in front of gauges and flow meters
Control Module on CES, (left or right-integrated)
Interface is rear pull
208 volts, 3-phase 60Hz
Coater direct floor drain (Tee in cabinet)
Developer direct floor drain (Tee in cabinet)
Full clogged drain sensor on each coater
Full SEMI S2-93 Containment for solvent/pump drawer enclosures, bulkhead
Facility sensors for vacuum generators, DI water and
Caustic exhaust
SECS Communication Port
Millipore controller / resist pump upgrades
1997 vintage.
SVG/ASML 90Sは、半導体メーカーに優れた性能と信頼性を競争力のある価格で提供するためにSVGによって開発されたフォトレジスト機器です。このシステムは、スキャン可能なスリットマスクを使用して、計算された光学パターンをマイクロエレクトロニクス機器の製造中にフォトレジスト表面に正確に転送できる、完全に自動化された高精度のコンピュータコントロール露光ユニットです。このマシンは、レーザー光と電子ビームイメージングのカスタマイズ可能な組み合わせで、フォトレジストを公開するために特別に設計された光源を使用しています。SVG 90Sは、スキャンスリットマスクの正確さが定義されているため、優れた機能分解能と制御を提供します。これは、さまざまな露出レベルで変調することができます。このツールはまた、特徴臨界寸法(CD)および露出緯度に影響を与える基板の裏側バイアスを可能にします。ASML 90Sは、スキャン動作とオールアルミニウムラメラーミラーにより、高い均一性と再現性を提供します。スキャンマスクと光源の再現性の高い同期により、幅広い基板形状とサイズにわたってCDと露出緯度の優れた再現性を提供します。また、画像品質を最適化し、粒子や欠陥レベルを低減し、全体的な歩留まりを向上させることができる多数の処理チャンバをサポートしています。フォトレジストモデルの線量精度は、露光のばらつきや高解像度の光源点、最適化された光源とチャンバーの設計により顕著です。全体として、90Sフォトレジスト装置は、コンピュータ制御露光システム、幅広い用量、高い均一性と再現性、および最適化されたチャンバー設計により、優れた信頼性と性能を提供します。その高度な機能により、半導体メーカーは高品質の集積回路を正確な機能と制御基板応答で製造することができます。
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