中古 SVG / ASML 90 #9298643 を販売中

SVG/ASML 90は、SVG （Advanced Semiconductor Materials Lithography）が開発・設計したハイエンドフォトレジスト機器です。このシステムは1990年に導入され、マイクロレベルで非常に精密で正確な構造を作成するために使用されます。フォトレジストユニットは、光と光に敏感な化学物質（フォトレジストと呼ばれる）を使用して、ウェーハ上のパターンを生成することによって動作します。この機械は複数のレーザーの縞に分けられる光線を出すのに0。75の数値の開きの193nm KrFのエキシマレーザーを使用します。この光ビームは、ウェーハに広がる感光化学（フォトレジスト）を露出させるために使用されます。フォトレジストは、ウェーハまたは基板の選択された領域に引き付けられ、表面にパターンを形成します。SVG 90ツールは、半導体チップの製造のための高解像度、高速、および優れた光学性能を可能にします。露出フィールドサイズに応じて、14〜18msの間のパターン露光時間があります。0.17µmライン/スペースの解像度が高い急なエッジプロファイルアセットを使用し、ショットツーショットのオーバーレイ精度は+/-2nmです。最大直径200mmまでのウェーハに対応可能で、1時間あたり45〜70本の高スループットを実現しています。また、垂直方向および水平方向のアライメント装置を備えており、垂直方向に+/-7。1nm、水平方向に+/-3。9nmのアライメント精度を保証します。それに加えて、洗練されたドリフトとフォーカス制御システムを備えており、ウェーハ間のミスアライメントを補正し、ウェーハ表面に一貫したオーバーラップを維持します。ASML 90は半導体産業にとって非常に貴重なツールであり、チップの生産において重要な要素です。高い精度、スピード、解像度でパターンを生成することができ、エレクトロニクス分野での継続的な進歩を可能にします。