中古 SVG 8632 #9255090 を販売中

SVG 8632は、photoresistanceを専門とするShipleyによって開発されたフォトレジスト機器です。半導体表面にパターンを作成するために使用されるマスク技術の一種です。これは、レジスト材料の非常に薄い層を必要とする高性能リソグラフィープロセスのために特別に設計されています。また、非常に薄いウェーハ上で非常に小さなフィーチャーサイズを製造するのにも適しています。フォトレジストシステムは、フォトレジスト層と基盤となるハードベーク層という2つの重要な構成要素で構成されています。フォトレジスト層は光に敏感で、パターン層として使用されます。これは、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレニミン、または光活性化合物を含むこれらの混合物などの高分子材料で構成されています。硬質焼成層は、酸化ケイ素や酸化ホウ素などの薄い酸化物の層で、支持層や拡散障壁として作用します。8632フォトレジストユニットでは、フォトレジスト層の露出を制御し、表面をパターン化するためにマスクを使用します。希望の場所にパターンを作成するために、マスクは光源にさらされ、露出された領域はフォトレジスト層の光活性化合物と相互作用します。この相互作用は化学反応を可能にし、露出した領域が硬化して不溶解性になる。ハードベーク層は、ウェーハ上の他の場所で化学反応が起こらないようにします。SVG 8632フォトレジストマシンは、ウェハ上で非常に小さな機能サイズを生産することができます。また、ウェーハ表面をパターン化する際の高精度・高分解能を実現しています。さらに、高い信頼性と明確な処理ウィンドウにより、プロセスの一貫性を確保します。さらに、それは所有権の低コストを持っています。全体的に、8632フォトレジストツールは、高性能リソグラフィープロセスに最適です。それは非常に小さい特徴サイズおよび優秀なプロセス一貫性を作り出す信頼でき、正確、使いやすいマスクの技術です。所有コストが低く、半導体業界での使用に適しています。