中古 STEAG / MATTSON / AST Marangoni #9184982 を販売中

STEAG/MATTSON/ASTマランゴニのフォトレジスト装置は、フォトリソグラフィを介して基板上の高解像度画像を生成するために使用される化学プロセスの組み合わせです。フォトリソグラフィ（Photolithography）とは、光を利用してマスクの形状を基板にエッチングする方法。AST Marangoniシステムは、感光抵抗を使用してこれを実行します。抵抗は通常液体媒体で中断される重合された分子の水溶液として供給されます。光にさらされると、分子は架橋し、基板上に堆積した高分子膜を形成します。このフィルムは、化学的特性と物理的特性の両方に非常に耐性があり、パターンを定義することができます。STEAG Marangoniユニットは3つのステージを使用しており、それぞれが基本パターンを作成する際の画像解像度を最大化します。第1段階では、フッ化水素酸などのエッチング液を基板に塗布します。このソリューションは、基板の表面を変更し、顕微鏡ピットを形成するために動作します。この第1段階は、その後のフォトリソグラフィーの付着ステップに必要な粗さを提供します。第2段階では、フォトレジストが基板に適用され、流れます。この段階は、基板上に均一な層を作成するために重要です。MATTSON Marangoniマシンは、表面張力と拡散の組み合わせを利用して、フォトレジストが基板に完全に付着することを保証します。最終段階では、フォトレジストは設定されたマスクを使用して光にさらされます。ここでフォトレジストが露出し、光と反応して分子の相互リンクを開始します。Marangoniツールは、高解像度の光学系とコンピュータ制御のアライメントデバイスの組み合わせを使用して、マスクが適切に配置されていることを確認します。クロスリンクが完了すると、クロスリンク分子は表面に均一な層を形成します。これは、マスクからパターンを保持し、基板上の均一な画像を提供します。このプロセスの後、パターンは、不要な領域でフォトレジストを除去するためにウェットエッチングを使用してさらに開発されています。STEAG/MATTSON/AST Marangoniフォトレジスト資産は、幅広い基板上で信頼性の高い正確な画像を生成する高度に専門化された効果的なフォトリソグラフィ技術です。これは、表面にフォトレジストの均一な層を確保するために、3つの異なる段階を利用しています。さらに、高解像度の光学系を使用して、マスクが適切に配置されていることを確認します。このモデルは、信頼性が高く効果的なフォトリソグラフィ技術であることが証明されており、エレクトロニクス業界で広く使用されています。