中古 STEAG Cluster 421 #9136000 を販売中

STEAG Cluster 421は、光電子部品だけでなく、平面および円筒形レンズの大量、高精度生産のために設計されたフォトレジスト機器です。露出資源を用いて各種光学機器の特性をシミュレートし、基板上に異なる構造を作成するためのリソグラフィ処理を行います。クラスター421は、50mm （1。97インチ）のスポットサイズで、優れた精度を提供します。フォトレジストシステムは、アモルファス材料や結晶材料をはじめ、あらゆる種類の石英、ガラス、プラスチック表面に対応するように設計されています。STEAG Cluster 421は、さまざまな表面形状の基板を幅広くサポートしているため、複雑な光学加工に最適です。フォトレジストユニットには、基板にフォトレジスト材料を適用するために使用できるプリントヘッドと、フォトレジスト材料の開発に使用できるデベロッパーマシンが含まれています。開発者ツールは、高解像度の結果を高速で提供するように構成されているため、大量生産に適しています。Cluster 421には露出を制御し、プロセスを開発するためのツールも含まれており、ユーザーはフォトレジストアセットを特定のニーズに合わせて調整することができます。たとえば、ユーザーは最適な露出リソースを選択して、最良の結果を得ることができます。フォトレジストモデルには、開発者のソリューション温度を制御する機能もあり、開発プロセスの精度を高めることができます。要約すると、STEAG Cluster 421は光学部品の大量生産のために特別に設計されたフォトレジスト機器です。優れた精度とスピードを提供し、フォトレジスト素材はさまざまな基板に合わせて調整することができます。さらに、ユーザーは露出を制御し、プロセスを開発する能力を持ち、可能な限り最良の結果を達成することができます。