中古 SSE Maximus 804 #293651477 を販売中

製造業者
SSE
モデル
Maximus 804
ID: 293651477
Coater / Developer system Hot plates, 8" Substrates: 6" x 6" Cabinet 3-Axis robot End effector vacuum standard, 4" -6" Flat touch screen monitor Computer Ethernet interface Cassette loading plate, 6" Touchless video pre-alignment, 6" Light tower: Red, yellow and green Remote controller Open bowl: 10,000 RPM Acceleration ramp: 50,000 RPM Spinning time: 0.1-999 Sec Standard drain with 5I waste tank High level sensor Clean dry air pressure: 8 ±.2 bar Vacuum: -0.8 ± 0.2 bar Coater and developer module: Bowl, 8" Waste tank with high level sensor: 5 Litres Chuck, 4"-6" BSR Nozzle Media valve Tubing Nozzle (3) Dispense pumps: 15 ml EBR Nozzle Hot / Coolplate stacker module: 8-Slots Nitrogen purge Vacuum Exhaust Coolplate, 8" (2) Hotplates, 8" Temperature uniformity and control: +0.5°C at 100°C Maximum temperature: 250°C HMDS Vapor prime hotplate, 8" Temperature uniformity and control: +0.5°C at 100°C Maximum temperature: 200°C CE Marked Power supply: 3 x 208 VAC, 60 Hz, 32 A 3 x 400 VAC, 50 Hz, 32 A.
SSE Maximus 804は、さまざまなフォトリソグラフィおよびマスク作成アプリケーションに包括的なソリューションを提供するように設計されたフォトレジスト機器です。このシステムは、半導体デバイス、プリント回路、およびその他のマイクロエレクトロニクス部品の製造において、基板またはウェーハに回路パターンを転送するために使用されます。Maximus 804は従来の紫外線(UV)フォトレジストユニットを採用しています。つまり、紫外線に敏感な化学コーティングを使用しているため、紫外線にさらされるとパターンが形成されます。このマシンは、効率的で正確なパターン転送を保証するために、さまざまなコンポーネントを備えています。マスターツールコントローラを備えており、すべてのコンポーネントの動作、加工用の基板の正確な配置のアセット、さまざまなアプリケーションのフォトレジストオプションを提供します。所望のパターン結果を得るためには、マスクと基板の正確なアライメントを達成する必要があります。モデルは、アライメント装置を使用して基板を正確に配置します。アライメントシステムは、デジタルカメラユニットと4軸ロボットアームを組み合わせて、サブミクロンの精度で自動調整することができます。また、フォトレジストスプレーツールを搭載し、専用のノズルを使用して薄く均一なフォトレジスト層を基板に適用します。最大24インチのフォトレジスト供給範囲を誇り、石英、ガラス、シリコン、各種金属など様々な基板に使用できます。最後に、UV露光モデルによってパターンが形成されます。これは、フォトレジスト材料を紫外線(UV)光にさらすために使用されるレーザー源を利用して、基板上に定義されたパターンが形成されます。UV露出装置は36インチまでのサイズのパターンを作り出すことができ、さまざまな抵抗の処理条件のための露出の強度の広い範囲を提供します。結論として、SSE Maximus 804は、さまざまなフォトリソグラフィおよびマスク作成アプリケーション向けの包括的なフォトレジストソリューションを提供します。Alignment System、 Photoresist Spray Unit、 UV Exposure Machineなどの最新のコンポーネントが1つのツールに統合されているため、フォトリソグラフィープロセスに最適です。
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