中古 SOLITEC 5110C #9043475 を販売中

SOLITEC 5110C Photoresist Equipmentは、耐薬品性ポリマー層を基材に精密成膜およびエッチングするための完全統合フォトリソグラフィーシステムです。高解像度パターン転送やアクティブ層の開発に使用されます。このユニットは、精密マスク、真空ベースのステージツール、および独自のディップコーティングプロセスを備えた大型フラットパネルデジタルイメージングマシンをベースにしています。SOLITEC 5110-Cアセットは、複数層のパターン転送とエッチングを同時に行うことができます。これは、5120Sと5140Cという2つの定義された構成で利用できます。5120Sモデルは、チャンバーサイズが10 「x10」までの少数の層のために設計されていますが、5140C装置は60 「x30」までのチャンバーサイズで、サイズが増加しています。5110Cシステムは機械全体を制御するために責任がある堅く統合された単位のコントローラーと設計されています。このコントローラは、デジタルイメージングツールとステージアセットをリンクします。さらに、複数のアルゴリズムコントローラを内蔵しており、成膜プロセスを制御し、エッチング速度、層厚、基板温度、ガス流量などの重要なパラメータを制御することにより、スムーズな動作を保証します。5110-Cモデルには独自のレーザーダイレクトイメージング（LDI）技術が含まれており、高解像度マスクパターンを生成することができます。これは、LDIとフォトレジストプロセスの組み合わせによって実現されます。LDIは、高精度マスクを使用してUV露出によってパターン化され、真空ベースの機器によって基板に転送されます。SOLITEC 5110Cは、50nmまでのパターンのパターン転送と構造化を提供し、各レイヤーに正確で反復可能なフォトレジストパターンを提供します。このシステムはまた、高いエッジ定義と高いパターン密度を提供し、生産フォトリソグラフィのための信頼性と費用対効果の高いソリューションを提供します。SOLITEC 5110-Cは、フォトレジスト層の生成に加えて、チップ接着、研磨、カプセル化などの幅広い二次プロセスや、完成品の特性測定にも使用できます。全体として、5110Cフォトレジストユニットは、複数の基板や厚さで使用できる高解像度フォトリソグラフィ用の強力で信頼性の高いソリューションであり、さまざまなアプリケーションに最適です。