中古 SOKUDO RF3 #79692 を販売中
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販売された
ID: 79692
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2008
Track system / Coater / Developer, 12"
Three Block - Right Feed
DOM - January 2008
2 Tarc Coat
2 Resist Coat
5 Develop
4 Input Stations
3 - AHL
7 - CP
4 - HP
6 - P-RPH
2 - WCP
Connected to a Canon iZa
2008 vintage.
SOKUDO RF3は、高精度な加工と複雑な形状やパターンを作り出す能力を兼ね備えたフォトレジスト機器です。半導体ウェハ製造、フォトマスク、液晶ディスプレイなどの分野で使用されています。フォトレジストは光によって選択的に除去される材料です。この素材を使用することで、さまざまな基板上に複雑なパターンや形状を作成することができます。SOKUDO RF 3は、フォトレジストの深紫外線硬化と非接触露出を使用しています。フォトマスク、液晶パネル、水晶やガラスなどの基板に適応できる高精度の自動露出プロセスを特長としています。この自動露出プロセスは、高解像度のため、パターニングプロセスに高い精度を提供するように設計されています。RF3には、真空大気と両面フォトマスクもあります。真空大気は、ほこりや他の汚染物質を減らすのに役立ちますが、両面フォトマスクは、フォトレジストパターンが基板の両側に維持されることを保証します。さらに、システムは、必要に応じて、フォトレジストパターンを簡単に変更および調整するためにも使用できます。精度と速度の面では、RF3は他のシステムよりもはるかに少ない故障率で、比類のないものです。また、最先端の多軸カメラアライメントユニットにより、各生産動作で高い再現性と均一性を提供します。SOKUDO RF3は、高度な残留面積制御、自動プロセスモニタリング、統合マスク検証機など、信頼性を高め、ダウンタイムを削減するために設計された多くの機能の恩恵を受けています。これにより、液晶製造に必要な高可用性プロセスに最適です。SOKUDO RF 3は、小容量の試作から大規模生産まで、幅広いお客様のニーズにお応えするよう設計されています。このツールは卓越した性能と信頼性を提供し、高スループットと低ボリュームのプロトタイピングから高精度で複雑性の高いパターニングまで、最も要求の厳しい要件を満たすことができます。
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