中古 SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293652063 を販売中
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ID: 293652063
ヴィンテージ: 2006
Spin processor
Filter fan unit
CO2 Gas supply
No robot
2006 vintage.
SEZ/LAM RESEARCH 4300フォトレジスト装置は、半導体製造の加工に特化したツールです。このシステムは、マスクから半導体基板に所望のパターンを移すプロセスであるフォトリソグラフィを利用しています。SEZ 4300ユニットは、基板上のフォトレジストコーティングを迅速かつ正確に製造するように設計されています。LAM RESEARCH 4300マシンは、高い発電光源とシャッター露光ステージを利用しています。この露出段階は、LEDダイオードの配列を利用して、基板への露出をブロックしてブロック解除します。この露光ステージは高精度で、分解能は15ミクロン、再現性は+/-3ミクロンです。露光ステージも非常に高速で、シャッター速度は最大50マイクロ秒です。4300は最小限のメンテナンス要件によって強化されています。このツールはクリーニングアセットを内蔵しており、ウェハハンドリングには真空チャックを使用しています。これにより、手動の洗浄手順が不要になり、汚染の可能性が低減されます。SEZ/LAM RESEARCH 4300モデルは、フロントマウントスピンコーティングアセンブリも備えています。アセンブリは基質にフォトレジストの一貫した、均一なコートを提供します。スピンコーティングアセンブリは無駄を最小限に抑え、不均一なコーティング厚さの形成を防ぎ、フォトレジストのコストを低く抑えます。SEZ 4300機器には、特定のプロセスとレシピを実行するように構成できるPCベースのソフトウェアパッケージが含まれています。このソフトウェアは、LAM RESEARCH 4300の洗練されたコンポーネントとともに、生産の再現性と速度を向上させ、より高品質のフォトレジストコートを保証します。全体的に、4300フォトレジストシステムは、基板上にフォトレジストコーティングを迅速かつ正確に作成するように設計された高度で信頼性の高いユニットです。マシンの高速露出速度と正確な露出制御により、メンテナンス要件を最小限に抑えながら、一貫した反復可能なフォトレジストパターンが生成されます。これにより、SEZ/LAM RESEARCH 4300は半導体生産のための貴重なツールとなります。
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