中古 SEZ / LAM RESEARCH 4300 #293587004 を販売中

SEZ/LAM RESEARCH 4300 Photoresist Equipmentは、半導体ウェーハ加工、マイクロエレクトロニクスデバイス製造、その他の精密操作などのアプリケーション向けに設計された画期的なツールです。このシステムには、生産レベル200mmクラス1のリソグラフィーツールが装備されています。それは速い単位操作、正確な抵抗の露出および優秀な決断、また柔軟性および拡張性を可能にします。SEZ/LAM4300は、イオン注入器と電子ビーム蒸発器からなるウェーハ処理装置を備えています。これにより、精密レジストアプリケーションとプロファイルの変更が可能になり、どちらもさまざまなサイズの基板で正常に実行できます。このツールは、プロジェクトの正確な要件に合わせてカスタマイズできる複数の露出設定を可能にします。MaximusTMソフトウェアスイートを使用してアセットを監視および制御することもできます。このモデルは、FOUP （Front-Opening Unified Pod）技術で構成される強力な光学機器を使用しており、高スループット動作用に構築されています。FOUPは、内部キャリアとDPS （Direct Plasma Sprayer）間のウェーハの迅速な転送を可能にします。DPSは300mm準拠のリソグラフィーツールで、イオンビームをピント合わせしてレジストを正確にエッチングします。MaxEtchツールスイートはDPSと統合されており、露出パラメータを素早く簡単に調整できます。LAM RESEARCH/LAM SEZ 4300には、露出レシピの詳細なライブラリや事前設定されたレジストプロファイルなどの高度な機能も備えています。パターンや均一なエッチングなどのエッチングプロセスを完全にカスタマイズできます。このシステムは、マルチクラウド機能へのアクセスと大量生産をサポートするように設計されたEndura Interfaceも備えています。最後に、SEZ/LAM RESEARCH/LAM LAM RESEARCH 4300フォトレジストユニットは、グローバルサービスとサポートを兼ね備えており、SEMI S2、 J-STD-001、 IEC60881などのコンプライアンス基準を満たしています。