中古 SEMIX TR 6133UD #9284320 を販売中

SEMIX TR 6133UDは、優れた機能分解能、低い歪み、高いプロセス安定性、低い化学廃棄物を提供する高性能フォトレジスト装置です。これは、高度なフォトリソグラフィープロセスを実行するときに時間と人件費を最小限に抑えるように設計された完全に自動化されたプログラマブルなシステムです。フォトレジストユニットは、光の露出変調を主要工具技術とする先進の真空露出機を採用しています。このアセットは、高精度、高い再現性、および低熱歪みで高度な機能を露出することができます。高解像度と高いプロセス安定性により、TR 6133UDは非常に小型で正確なフィーチャーサイズを作成するのに理想的です。SEMIX TR 6133UDの最大の特徴は、従来の光学システムとは異なり、高度で正確なフィーチャーサイズ制御を実現することです。このモデルは、フォトレジストがより高い露出周波数にさらされることを可能にする多層誘電成膜を備えた特別に設計された光学マスクを使用して、nmサイズまでの細かい特徴を達成します。また、TR 6133UDは、リソグラフィープロセス中の化学廃棄物を最小限に抑えるように設計されています。これは、水と界面活性剤の組み合わせを利用して化学廃棄物を削減することによって達成されます。さらに、この装置はクロスループ再生サイクルを利用しており、リージェンプロセス中のクロス汚染のリスクを最小限に抑え、プロセスの歩留まりを改善します。SIMIX SEMIX TR 6133UDは、DWELL （Direct Write Electronic Lithography）技術を含む最先端のリソグラフィープロセスを容易にするように設計されています。このシステムは、複数のコーティングおよびスピンコーティングソリューションと互換性があり、薄い基板と厚い基板の両方に特殊な薄膜コーティングを使用することができます。また、温度と湿度の両方を監視できる高度な機能を内蔵しているため、ユーザーは毎回正確な条件でプロセスを実行することができます。強力で自動化されたプログラミングマシンにより、温度、露出時間、湿度などのパラメータを簡単に制御し、優れた結果を得ることができます。TR 6133UDフォトレジストツールは、高度なフォトリソグラフィープロセスの最も要求の厳しいニーズを満たすように設計された高度で高精度でプログラマブルなツールです。この資産は、プロセスの安定性と化学廃棄物の削減を向上させ、優れた機能分解能と精度を保証します。