中古 SEMITOOL WST-406MG #9265375 を販売中

SEMITOOL WST-406MG Photoresist Equipmentは、フォトレジストプロセスで一貫した信頼性と正確な結果を提供するウェットステーションです。温度と溶液濃度を維持するために最適な再循環技術が組み込まれており、頻繁な溶液の交換や排水の必要性を軽減します。また、耐久性に優れた406MGタンクと蓋の組み合わせにより、チップ防止技術を採用し、加工時の基板の取り扱いを容易かつ安全に行うことができます。操作しやすいメニューを備えた直感的なタッチパネルインターフェイスは、信頼性の高い機械制御と監視を提供し、歩留まりと再現性を向上させる正確なプロセスパラメータを提供します。このユニットは、あらゆる製造活動のニーズを満たすウェットベンチ機能の組み合わせを提供します。ソリューションの純度を維持するための独立した濾過、適切な性能を確保するためのpH監視、簡単なメンテナンスのためのツールキットを備えています。また、ステンレス製のスプレーリンスステーションを備えており、水使用量を削減し、タンク壁や部品からの化学物質の沈殿物をきれいにします。このクリーンインプレイス（CIP）機能により、腐食を防ぎ、タンク全体の寿命を向上させます。このツールは、フォトレジストの均一な湿式表面開発（WSD）を可能にし、部品の一貫性と歩留まりを向上させます。5つのプロセスチャンバーはそれぞれ、反復可能で一貫したプロセスパラメータを得るために制御された攪拌と濾過を提供します。温度監視と制御、スプレー洗浄プロファイル、および小型から大型アセンブリ用のさまざまなマスキングシステムが利用可能です。アセットには、大きな基板やコンテナの重みを検出して管理し、転倒や過充填を防ぐ機能もあります。それは自動圧力補償とのきれいな、工場密封された環境で作動します従ってプロセスは常に望ましい変数の内に残ります。これにより、潜在的な汚染や露出を排除し、人間の相互作用も減少させます。SEMITOOL WCT-406MGは、ミディアムスループット、費用対効果の高いフォトレジスト操作に最適なマシンです。基板を安全に取り扱いながら継続的に実行することができるため、製造ラボにとって貴重な資産となります。このモデルは、人件費を削減し、歩留まりと製品品質を向上させる一貫した結果を提供するのに役立ちます。