中古 SEMITOOL WST-305MP #9109522 を販売中
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ID: 9109522
Wafer mask cleaning system
Water soluble develop strip tool
Computerized programmable interface
Computer:
Optiplex GN+ 5200M EM
Pentium/MMX 200MHz
64MB RAM (EDO)
3.2GB HDD
CD-ROM
1.44MB Floppy
14" Amdek AM/432N Amber monochrome VGA monitor, p/n: 901189-02 with severe screen burn.
208 VAC, 50 / 60 Hz, 30 Amps.
SEMITOOL WST-305MPはフォトリソグラフィでフォトレジストを開発するためのツールです。最新の高精度フォトマスクとウェットベンチ部品を処理するように設計された高度なウェットベンチ装置です。このシステムは完全に自動化されたトランスポート機構を備えており、正確なサンプル配置とオリエンテーション機能を提供します。さらに、均一な加工結果を確保するために、高精度の2ピクチャーフレームマスクステーションを備えています。WST-305MPには高度なステージコントロールユニットがあり、フォトリソグラフィーアプリケーションの精度と再現性を向上させます。主な用途は、半導体デバイスや集積回路の製造用フォトレジストの開発です。SEMITOOL WST-305MPは、開発時間を短縮するためにホットプロセスモジュールを使用し、このマシンはデュアルレベル露出などの複雑なパターン化された基板プロセスを実行することができます。プロセスで使用される制御露光紫外線は、マルチフィールドの固体UVレーザーによって生成されます。このツールには、ユーザーのリアルタイムプロセス監視、トレーサビリティ、フィードバック機能を提供する高度なプロセス制御オプションが装備されています。これには、シングルレベルおよびダブルレベルのレジスト層を開発するためのオプションと、液体フォトレジスト蒸着およびプラズマエッチングのための制御オプションが含まれます。厳格なプロセス制御資産はまた、フォトレジストの開発における再現性と均一性を保証します。WST-305MPはさらに、ユーザー定義のプロセス設定の範囲を実行するようにプログラムすることができる洗練されたコントローラ/ソフトウェアモデルが装備されています。また、潜在的な機械およびコンポーネントのリスクをユーザーに通知する、組み込みの診断およびメンテナンスアラートも備えています。SEMITOOL WST-305MPは、フォトマスクや基板の効率的かつ信頼性の高い処理を可能にする強力で汎用性の高いフォトリソグラフィ機器です。半導体およびICデバイス向けの高度なフォトレジスト層の開発に最適です。システムの直感的なユーザーインターフェイスと幅広いプロセス制御オプションにより、生産性が向上し、歩留まりが向上します。
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