中古 SEMITOOL SST-202A #9265775 を販売中

SEMITOOL SST-202A
製造業者
SEMITOOL
モデル
SST-202A
ID: 9265775
Spray solvent tools.
SEMITOOL SST-202Aは、リソグラフィ用途における精密パターニング用に設計されたフォトレジスト機器です。このシステムは幅広いプロセスソリューションを提供し、さまざまな基板の効率的で正確なパターニングを可能にします。SST-202Aは、忠実度の高い基板上の構造を生成するためのリソグラフィー・トラック、電源制御用の自動ユニット・コントローラ(ASC)、フォトレジストを正確に適用するためのスピンコーターで構成されています。SEMITOOL SST-202Aには、オプションのプラズマアッシャー、露出ユニット、リフトオフユニットも含まれており、パターニングプロセスをさらに制御できます。SST-202Aは、直径8インチまでの固体基板、MEMS、 OLED、 III-V化合物、パワーデバイスなどの薄型基板を加工することができます。このマシンは、フィルム厚モニターを使用して、スピンコーティング中に均一なフォトレジストコーティングを保証します。フォトレジストは、パターニングのために紫外線にさらされます。SEMITOOL SST-202AのASCは、プロセスをリアルタイムで制御する高度な機能を備えています。プロセスパラメータを追跡するデータロギングツールと、最大効率のためのステップバイステップの指示を備えています。ASCはまた、さまざまなフォトレジストや基板の露出エネルギーの自動キャリブレーションを可能にします。オプションのプラズマアッシャーにより、パターン化された基板からフォトレジスト残留物やその他の汚染物質を効率的に除去できます。アッシャーはRFソースを使用して真空チャンバー内にプラズマを作成し、基板全体に均一なエッチプロファイルを作成します。オプションのUV露出ユニットは、基板上のパターンの正確な露出を提供します。単位に10msから10秒まで調節可能な露出時間を提供する可変的な頻度ランプがあります。オプションのリフトオフユニットは、パターニング完了後に基板からフォトレジストを除去するために使用できます。不活性ガス供給付きの加熱プラテンを使用して、基板の損傷を最小限に抑えてフォトレジストを持ち上げます。全体的SST-202A、フォトレジスト資産は、高精度で再現性のあるさまざまな基板のリソグラフィ処理のための単一のプラットフォームを提供します。このモデルには、さまざまな用途のための基板の効率的かつ正確なパターニングを保証するための高度な機能が装備されています。
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