中古 SEMITOOL SRD-240S-6-1-E-ML #9366563 を販売中

SEMITOOL SRD-240S-6-1-E-ML Photoresist Equipmentは、半導体およびIC技術のベンダーおよび開発者に、さまざまなウェーハ作成アプリケーションのためのフォトレジストを効率的、正確、かつコスト効率よく堆積およびストリップする機能を提供するために設計された自動ウェーハストリップ、レジストおよびピールシステムです。このユニットは、1対6のウェーハ容量を持つストリップ・アンド・ピール（SP）モジュールを使用しています。ウェーハは、真空内視鏡があるカセットまたはポッドによって最初に保持されます。その後、フォトレジストが挑発されるフレーム位置に転送されます。レジストは、統合されたR2マシンを介して、ウェーハの平面に平行な方向に正確にウェーハ表面にロールされます。その後、レジストは数秒間触れずに放置され、レジストがウェーハ表面に設定されるようになります。この設定は、周囲温度から200°C以上の温度まで調節可能な温度で行うことができます。温度はまた装置のタイプかリソグラフィのタイプによって調節可能です。このツールは、2つの異なる皮技術を使用するように設計されたSRD-240S-6-1-E-MLの統合PEELERアセットを使用して、ウェーハからフォトレジストの完全なストリップを自動的に実行することができます。洗剤および溶媒ベース。溶剤ベースのプロセスは、サブライブレベルの構造とジャンクション技術の洗剤ベースのプロセスに使用されます。さらに、さらに水分を除去するために使用できるドライヤーを内蔵して設計されています。乾燥機はまた取り外しのための理想的な抵抗の状態を得るために環境を事前に密集させるのに使用することができます。ユーザーは、温度、流量、回転速度などのプロセスパラメータを調整して、目的の結果を得ることもできます。SEMITOOL SRD-240S-6-1-E-MLには欠陥検査装置が統合されており、ユーザーはウェーハの欠陥を検出して測定することができます。さらに、プロセスが最適に実行されていることを確認するために、システムにはプロセスパラメータのリアルタイムモニタがあります。SRD-240S-6-1-E-MLは、半導体やIC技術のメーカー向けの優れたフォトレジストユニットです。この機械は有効、正確、費用効果が大きい、および容易に調節可能異なったタイプのプロセスの必要性に適するためにです。このツールは、ユーザーがウェーハ準備アプリケーションで最高の最高品質の結果を得ることを保証します。