中古 SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP #9209043 を販売中

SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Equipmentは、高精度マイクロリソグラフィープロセス用に設計されたハイエンド対流ベースのフォトレジストシステムです。半導体やマイクロエレクトロニクス用途向けの高解像度フォトマスクなどの小型基板のフォトレジストコーティングおよび加工を目的としています。フォトレジストユニットS27-S-3-1-ML-WP、 3軸制御を備えており、精度と再現性を提供し、広々とした基板アクセスチャンバーを備えています。それは高度、使いやすい、ユーザーフレンドリーなソフトウェアマシンが装備されており、便利なステンレス鋼の収納キャビネットが付属しています。このツールは、液体、乾燥、および回復可能なレジストを含む高分子基板の互換性を提供します。この汎用性により、スピンコーティング、スロットコーティング、綿棒プロセスなど、さまざまなフォトレジストプロセスが可能になります。さらに、SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WPアセットは、基板温度制御を最大限に可能にし、基板全体におけるフォトレジスト材料の最も均一な分布を提供します。S27-S-3-1-ML-WPモデルは、プロセスパラメータの最適な精度と再現性を実現するように設計されています。高度なソフトウェアと温度制御により、正確な露出と開発時間を実現します。さらに、この装置には高度なフロー制御システムが搭載されており、正確で繰り返し可能なスピン速度と圧力を実現します。SEMITOOL S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Unitは、今日のマイクロエレクトロニクスおよび半導体産業の進化するプロセス要求に応えるように設計されており、信頼性の高い効率的なパフォーマンスをユーザーに提供します。これは、包括的かつ統合されたプロセスと障害監視だけでなく、高品質の陽極酸化アルミニウム構造を備えています。スペース効率に優れた設計により、S27-S-3-1-ML-WP Photoresist Machineは、スペースを限定した生産および実験室の設定に理想的なソリューションです。