中古 SEMITOOL Raider #293635960 を販売中

製造業者
SEMITOOL
モデル
Raider
ID: 293635960
ウェーハサイズ: 12"
Single wafer processing system, 12" Model No: RE12F2ECD1204 Substrate: Si, 12" S2 Computer 502SE Controller Remote PPS MARATHON Standard Interface: CDRU, AARU (6) CCD Cameras Process: Cu, Ni, Eutectic, High lead plating Automation: Type: (2) FOUP WIP (PGV Compatible) COAXIAL HT Robot STI Robot controller End effect controller: Edge grip Wet transfer edge grip FOUP ID: ASYST, P/N: 9750-2000-000 HERMOS RF Tag reader Vacuum source Wafer protrusion sensor Process module: CPC 1, 10, 12: Process: SRD / Prewet PTFE Spray chamber P/N: 271T0020-03 Rotor: Cantilever, N2 Wafer purge Bulk fill supply with filter, 5" IW Drain Spray bar nozzel, P/N: 341 T0011-05 CPC 2: Process: Ni Plating Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Anode, P/N: 110T0198-01, 111T0000-10 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact Wafer extraction (Mechanical) Flow meter on chemical line Shield / Weir, P/N: 111T1204-511 CPC 3, 4, 9: Process: Solder plating (Eutectic) Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact CPC 5, 6, 7, 8: Process: Solder plating (High lead) Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact Wafer extraction Flow meter on chemical line Shield / Weir, P/N: 111T1204-511 CPC 11: Process: Cu Plating Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Anode, P/N: 111T1197-01 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact Wafer extraction Flow meter on chemical line Shield / Weir, P/N: 111T1204-511 Capacity: 48 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 50-55°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: ARU / CDU / Bulk fill / Manual fill tube Sample port CPC 2 Ni Plating solution Carbon polishing filter Conditioning electrodes pH Monitor Sight tube Power supply Tank 2: High lead solder Capacity: 120 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 25-35°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: Bulk fill / CDU / Manual fill tube Sample port CPC 5, 6, 7, 8 Chemical: High lead plating solution Sight tube Tank 3: Eutectic solder Capacity: 120 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 25-35°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: Bulk fill / CDU / Manual fill tube Sample port CPC 3, 4, 9 Chemical: Eutectic plating solution Sight tube Tank 4: Cu Capacity: 48 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 25°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: ARU / CDU / Bulk fill / Manual fill tube Sample port CPC 11 Cu Plating solution Sight tube Drains: IW, Eutectic, Hi lead, Ni, Cu Options: (3) Heater chillers Dl Booster pump cabinet and Interface Power supply: 480 V, 4 Wire, 3-Phase.
SEMITOOL Raiderは、今日の半導体および電子部品製造の厳しい性能と精度要件を満たすように設計された、高度で自動化されたフォトレジスト装置です。このシステムは完全に自動化されたウェーハ露出と処理機能を提供し、製造メーカーは歩留まりの最大化、コストの削減、生産スループットの向上を可能にします。Raiderは2048ビームレットと424 mmのNA (Numerical Aperture)レンズを使用した精密8インチ露出ユニットを備えており、最大30mmの露出フィールドを適用できます。これにより、ユーザーは最高品質のフォトレジスト製品を提供するために必要な精度と解像度を達成することができます。また、露光機にはプルバック・アライメント機能と自動基板クランプおよびエッジ検出機能が搭載されており、基板表面全体の正確な露出とアライメントが可能です。SEMITOOL Raider Photoresist Toolは、優れた露出機能に加えて、フォトレジストの割り当てを合理化し、レシピ設定とパラメータの正確性を確保するために設計された先進的な材料管理ソリューションも備えています。この高度なソフトウェアソリューションにより、手動入力なしで各タイプのフォトレジストのレシピにすばやく簡単にアクセス、表示、更新できます。これにより、エラーの可能性が排除され、すべてのレシピが正しく構造化され、手付かずのパフォーマンスに最適化されます。Raiderには、フォトレジスト資産のライフサイクル全体にわたって品質を監視できる薄膜測定機能も内蔵されています。この品質測定ソリューションは、自動化された手動の品質レビューを可能にし、レジスト厚さ、均一性、およびコーティング品質に関する貴重なデータと分析を提供します。これらの機能は、短期コストと長期コストの両方を削減しながら、生産全体の一貫性とパフォーマンスを確保するのに役立ちます。全体として、SEMITOOL Raiderは、優れた露出、材料管理、薄膜測定機能を提供する高度で高度なフォトレジストモデルです。自動化されたプロセスは、歩留まりの最大化、コストの削減、生産スループットの向上に役立ちます。高度な機能とデータ分析により、メーカーはRaiderに依存して高品質で高精度なレジスト製品を確実に提供できます。
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