中古 SEMITOOL Raider #293635960 を販売中
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ID: 293635960
ウェーハサイズ: 12"
Single wafer processing system, 12"
Model No: RE12F2ECD1204
Substrate: Si, 12"
S2 Computer
502SE Controller
Remote PPS
MARATHON Standard
Interface: CDRU, AARU
(6) CCD Cameras
Process: Cu, Ni, Eutectic, High lead plating
Automation:
Type: (2) FOUP WIP (PGV Compatible)
COAXIAL HT Robot
STI Robot controller
End effect controller:
Edge grip
Wet transfer edge grip
FOUP ID: ASYST, P/N: 9750-2000-000
HERMOS RF Tag reader
Vacuum source
Wafer protrusion sensor
Process module:
CPC 1, 10, 12:
Process: SRD / Prewet
PTFE Spray chamber P/N: 271T0020-03
Rotor: Cantilever, N2 Wafer purge
Bulk fill supply with filter, 5"
IW Drain
Spray bar nozzel, P/N: 341 T0011-05
CPC 2:
Process: Ni Plating
Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III
Ring, P/N: 213T1055-501
Anode, P/N: 110T0198-01, 111T0000-10
Plating PS, P/N: T16852-118
Wafer present sensor
Mercury contact
Wafer extraction (Mechanical)
Flow meter on chemical line
Shield / Weir, P/N: 111T1204-511
CPC 3, 4, 9:
Process: Solder plating (Eutectic)
Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III
Ring, P/N: 213T1055-501
Plating PS, P/N: T16852-118
Wafer present sensor
Mercury contact
CPC 5, 6, 7, 8:
Process: Solder plating (High lead)
Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III
Ring, P/N: 213T1055-501
Plating PS, P/N: T16852-118
Wafer present sensor
Mercury contact
Wafer extraction
Flow meter on chemical line
Shield / Weir, P/N: 111T1204-511
CPC 11:
Process: Cu Plating
Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III
Ring, P/N: 213T1055-501
Anode, P/N: 111T1197-01
Plating PS, P/N: T16852-118
Wafer present sensor
Mercury contact
Wafer extraction
Flow meter on chemical line
Shield / Weir, P/N: 111T1204-511
Capacity: 48 L
Style: Unsealed NPP
Heat exchange coils
Temperature: 50-55°C
Filter, 10"
Sensor: (5) Floats
LEVITRONIX BPS 3 Pump
WK AP50 Pump
Supply: ARU / CDU / Bulk fill / Manual fill tube
Sample port
CPC 2
Ni Plating solution
Carbon polishing filter
Conditioning electrodes
pH Monitor
Sight tube
Power supply
Tank 2: High lead solder
Capacity: 120 L
Style: Unsealed NPP
Heat exchange coils
Temperature: 25-35°C
Filter, 10"
Sensor: (5) Floats
LEVITRONIX BPS 3 Pump
WK AP50 Pump
Supply: Bulk fill / CDU / Manual fill tube
Sample port
CPC 5, 6, 7, 8
Chemical: High lead plating solution
Sight tube
Tank 3: Eutectic solder
Capacity: 120 L
Style: Unsealed NPP
Heat exchange coils
Temperature: 25-35°C
Filter, 10"
Sensor: (5) Floats
LEVITRONIX BPS 3 Pump
WK AP50 Pump
Supply: Bulk fill / CDU / Manual fill tube
Sample port
CPC 3, 4, 9
Chemical: Eutectic plating solution
Sight tube
Tank 4: Cu
Capacity: 48 L
Style: Unsealed NPP
Heat exchange coils
Temperature: 25°C
Filter, 10"
Sensor: (5) Floats
LEVITRONIX BPS 3 Pump
WK AP50 Pump
Supply: ARU / CDU / Bulk fill / Manual fill tube
Sample port
CPC 11
Cu Plating solution
Sight tube
Drains: IW, Eutectic, Hi lead, Ni, Cu
Options:
(3) Heater chillers
Dl Booster pump cabinet and Interface
Power supply: 480 V, 4 Wire, 3-Phase.
SEMITOOL Raiderは、今日の半導体および電子部品製造の厳しい性能と精度要件を満たすように設計された、高度で自動化されたフォトレジスト装置です。このシステムは完全に自動化されたウェーハ露出と処理機能を提供し、製造メーカーは歩留まりの最大化、コストの削減、生産スループットの向上を可能にします。Raiderは2048ビームレットと424 mmのNA (Numerical Aperture)レンズを使用した精密8インチ露出ユニットを備えており、最大30mmの露出フィールドを適用できます。これにより、ユーザーは最高品質のフォトレジスト製品を提供するために必要な精度と解像度を達成することができます。また、露光機にはプルバック・アライメント機能と自動基板クランプおよびエッジ検出機能が搭載されており、基板表面全体の正確な露出とアライメントが可能です。SEMITOOL Raider Photoresist Toolは、優れた露出機能に加えて、フォトレジストの割り当てを合理化し、レシピ設定とパラメータの正確性を確保するために設計された先進的な材料管理ソリューションも備えています。この高度なソフトウェアソリューションにより、手動入力なしで各タイプのフォトレジストのレシピにすばやく簡単にアクセス、表示、更新できます。これにより、エラーの可能性が排除され、すべてのレシピが正しく構造化され、手付かずのパフォーマンスに最適化されます。Raiderには、フォトレジスト資産のライフサイクル全体にわたって品質を監視できる薄膜測定機能も内蔵されています。この品質測定ソリューションは、自動化された手動の品質レビューを可能にし、レジスト厚さ、均一性、およびコーティング品質に関する貴重なデータと分析を提供します。これらの機能は、短期コストと長期コストの両方を削減しながら、生産全体の一貫性とパフォーマンスを確保するのに役立ちます。全体として、SEMITOOL Raiderは、優れた露出、材料管理、薄膜測定機能を提供する高度で高度なフォトレジストモデルです。自動化されたプロセスは、歩留まりの最大化、コストの削減、生産スループットの向上に役立ちます。高度な機能とデータ分析により、メーカーはRaiderに依存して高品質で高精度なレジスト製品を確実に提供できます。
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