中古 SEMITOOL Raider #293600285 を販売中
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ID: 293600285
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2008
Systems, 12"
(8) Chambers
Substrate: Si, 12"
Chiller
DHF Mix tank
CO2 Bottle
S2 Computer
502SE Controller
Remote PPS
MARATHON Standard
Automation:
Type: (2) FOUP WIP (PGV compatible)
COAXIAL HT Robot
STI Robot controller
End effect controller:
Edge grip
Wet transfer edge grip
FOUP ID: ASYST, P/N: 9750-2000-000
HERMOS RF Tag reader
Vacuum source
Wafer protrusion sensor
Process module:
CPC 1, 10, 12
Process: SRD / Prewet
PTFE Spray chamber P/N: 271T0020-03
Rotor: Cantilever, N2 Wafer purge
Bulk fill supply with filter, 5"
IW Drain
Spray bar nozzel, P/N: 341 T0011-05
CPC 2
Process: Ni plating
Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III
Ring, P/N: 213T1055-501
Anode, P/N: 110T0198-01, 111T0000-10
Plating PS, P/N: T16852-118
Wafer present sensor
Mercury contact
Wafer extraction (mechanical)
Flow meter on chemical line
Shield / Weir, P/N: 111T1204-511
CPC 3, 4, 9
Process: Solder plating (eutectic)
Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III
Ring, P/N: 213T1055-501
Plating PS, P/N: T16852-118
Wafer present sensor
Mercury contact
CPC 5, 6, 7, 8
Process: Solder plating (high lead)
Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III
Ring, P/N: 213T1055-501
Plating PS, P/N: T16852-118
Wafer present sensor
Mercury contact
Wafer extraction
Flow meter on chemical line
Shield / Weir, P/N: 111T1204-511
CPC 11
Process: Cu Plating
Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III
Ring, P/N: 213T1055-501
Anode, P/N: 111T1197-01
Plating PS, P/N: T16852-118
Wafer present sensor
Mercury contact
Wafer extraction
Flow meter on chemical line
Shield / Weir, P/N: 111T1204-511
Capacity: 48 L
Style: Unsealed NPP
Heat exchange coils
Temperature: 50-55°C
Filter, 10"
Sensor: (5) Floats
LEVITRONIX BPS 3 Pump
WK AP50 Pump
Supply: ARU / CDU / Bulk fill / Manual fill tube
Sample Port
CPC 2
Ni Plating solution
Carbon polishing filter
Conditioning electrodes
pH Monitor
Sight tube
Power supply
Tank 2: High lead solder
Capacity: 120 L
Style: Unsealed NPP
Heat exchange coils
Temperature: 25-35°C
Filter, 10"
Sensor: (5) Floats
LEVITRONIX BPS 3 Pump
WK AP50 Pump
Supply: Bulk fill / CDU / Manual fill tube
Sample Port
CPC 5, 6, 7, 8
Chemical: High lead plating Solution
Sight tube
Tank 3: Eutectic solder
Capacity: 120 L
Style: Unsealed NPP
Heat exchange coils
Temperature: 25-35°C
Filter, 10"
Sensor: (5) Floats
LEVITRONIX BPS 3 Pump
WK AP50 Pump
Supply: Bulk fill / CDU / Manual fill tube
Sample port
CPC 3, 4, 9
Chemical: Eutectic plating solution
Sight tube
Tank 4: Cu
Capacity: 48 L
Style: Unsealed NPP
Heat exchange coils
Temperature: 25°C
Filter, 10"
Sensor: (5) Floats
LEVITRONIX BPS 3 Pump
WK AP50 Pump
Supply: ARU / CDU / Bulk fill / Manual fill tube
Sample port
CPC 11
Cu Plating solution
Sight tube
Drains:
IW
Eutectic
Hi lead
Ni
Cu
Process:
Cu
Ni
Eutectic
High lead plating
Options:
(3) Heater chillers
AARU
Dl Booster pump cabinet and Interface
Power supply: 480 V, 4 Wire, 3 Phase
2008 vintage.
SEMITOOL Raiderは、2001年に半導体装置メーカーSEMITOOLが発売したフォトレジスト機器です。このシステムは、スプレーオンコーティングを使用して、その後のパターニングプロセスのために半導体ウェーハにフォトレジストの層を堆積させます。レイダーは、ロードロックトランスポーター、スプレーアーム、パーティクルコントロールユニットなど、いくつかのコンピューター制御コンポーネントを備えています。SEMITOOL Raiderは、1時間あたり最大50個のウェーハを処理し、ウェーハ表面全体にわたって均一なレジストプロファイルを生成します。カセットからウェーハをアンロードし、スプレーアームに搬送し、レジスト層を堆積して外部コンベアに搬送します。スプレーアームは、SU-8抵抗の薄い(100-200nm)層を適用することができます。粒子制御ユニットは、粒子がフォトレジストを汚染しないようにし、レジストの均一なコーティングを保証します。スプレーチャンバー内の酸素濃度、湿度、温度、圧力を監視し、環境中の粒子の濃度を監視します。レイダーにはオートフォーカスユニットもあり、ウェーハ表面全体に一定の焦点を合わせることができます。SEMITOOL Raiderには、静電気の蓄積や排気ガスなどの外部要因から保護する多数の安全機能があります。各システムは、最大精度のために個別に校正することができ、スプレーアームは最大制御と精度のために完全に電動化されています。レイダーはモジュラーマシンであり、時間をかけて電子機器や部品をアップグレードすることができます。それは1から12インチまで及ぶ直径のウエハを処理することを可能にする方法で設計されています。SEMITOOL Raiderは、半導体業界のフォトレジスト用途に最適な信頼性の高いツールです。メンテナンス性が低く、大量のウエハーを日常的に処理することができます。それは薄く、均一な抵抗の層を作り出し、環境がきれいのままで、粒子がないことを保障します。レイダーは、ユーザーの安全を念頭に置いて構築されており、そのさまざまな安全機能は、オペレータが常に安全であることを保証します。
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