中古 SEMITOOL Raider #293600285 を販売中

製造業者
SEMITOOL
モデル
Raider
ID: 293600285
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2008
Systems, 12" (8) Chambers Substrate: Si, 12" Chiller DHF Mix tank CO2 Bottle S2 Computer 502SE Controller Remote PPS MARATHON Standard Automation: Type: (2) FOUP WIP (PGV compatible) COAXIAL HT Robot STI Robot controller End effect controller: Edge grip Wet transfer edge grip FOUP ID: ASYST, P/N: 9750-2000-000 HERMOS RF Tag reader Vacuum source Wafer protrusion sensor Process module: CPC 1, 10, 12 Process: SRD / Prewet PTFE Spray chamber P/N: 271T0020-03 Rotor: Cantilever, N2 Wafer purge Bulk fill supply with filter, 5" IW Drain Spray bar nozzel, P/N: 341 T0011-05 CPC 2 Process: Ni plating Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Anode, P/N: 110T0198-01, 111T0000-10 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact Wafer extraction (mechanical) Flow meter on chemical line Shield / Weir, P/N: 111T1204-511 CPC 3, 4, 9 Process: Solder plating (eutectic) Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact CPC 5, 6, 7, 8 Process: Solder plating (high lead) Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact Wafer extraction Flow meter on chemical line Shield / Weir, P/N: 111T1204-511 CPC 11 Process: Cu Plating Chamber, P/N: 271T0130-01 CFD III Ring, P/N: 213T1055-501 Anode, P/N: 111T1197-01 Plating PS, P/N: T16852-118 Wafer present sensor Mercury contact Wafer extraction Flow meter on chemical line Shield / Weir, P/N: 111T1204-511 Capacity: 48 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 50-55°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: ARU / CDU / Bulk fill / Manual fill tube Sample Port CPC 2 Ni Plating solution Carbon polishing filter Conditioning electrodes pH Monitor Sight tube Power supply Tank 2: High lead solder Capacity: 120 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 25-35°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: Bulk fill / CDU / Manual fill tube Sample Port CPC 5, 6, 7, 8 Chemical: High lead plating Solution Sight tube Tank 3: Eutectic solder Capacity: 120 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 25-35°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: Bulk fill / CDU / Manual fill tube Sample port CPC 3, 4, 9 Chemical: Eutectic plating solution Sight tube Tank 4: Cu Capacity: 48 L Style: Unsealed NPP Heat exchange coils Temperature: 25°C Filter, 10" Sensor: (5) Floats LEVITRONIX BPS 3 Pump WK AP50 Pump Supply: ARU / CDU / Bulk fill / Manual fill tube Sample port CPC 11 Cu Plating solution Sight tube Drains: IW Eutectic Hi lead Ni Cu Process: Cu Ni Eutectic High lead plating Options: (3) Heater chillers AARU Dl Booster pump cabinet and Interface Power supply: 480 V, 4 Wire, 3 Phase 2008 vintage.
SEMITOOL Raiderは、2001年に半導体装置メーカーSEMITOOLが発売したフォトレジスト機器です。このシステムは、スプレーオンコーティングを使用して、その後のパターニングプロセスのために半導体ウェーハにフォトレジストの層を堆積させます。レイダーは、ロードロックトランスポーター、スプレーアーム、パーティクルコントロールユニットなど、いくつかのコンピューター制御コンポーネントを備えています。SEMITOOL Raiderは、1時間あたり最大50個のウェーハを処理し、ウェーハ表面全体にわたって均一なレジストプロファイルを生成します。カセットからウェーハをアンロードし、スプレーアームに搬送し、レジスト層を堆積して外部コンベアに搬送します。スプレーアームは、SU-8抵抗の薄い(100-200nm)層を適用することができます。粒子制御ユニットは、粒子がフォトレジストを汚染しないようにし、レジストの均一なコーティングを保証します。スプレーチャンバー内の酸素濃度、湿度、温度、圧力を監視し、環境中の粒子の濃度を監視します。レイダーにはオートフォーカスユニットもあり、ウェーハ表面全体に一定の焦点を合わせることができます。SEMITOOL Raiderには、静電気の蓄積や排気ガスなどの外部要因から保護する多数の安全機能があります。各システムは、最大精度のために個別に校正することができ、スプレーアームは最大制御と精度のために完全に電動化されています。レイダーはモジュラーマシンであり、時間をかけて電子機器や部品をアップグレードすることができます。それは1から12インチまで及ぶ直径のウエハを処理することを可能にする方法で設計されています。SEMITOOL Raiderは、半導体業界のフォトレジスト用途に最適な信頼性の高いツールです。メンテナンス性が低く、大量のウエハーを日常的に処理することができます。それは薄く、均一な抵抗の層を作り出し、環境がきれいのままで、粒子がないことを保障します。レイダーは、ユーザーの安全を念頭に置いて構築されており、そのさまざまな安全機能は、オペレータが常に安全であることを保証します。
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