中古 SEMITOOL Equinox #293590462 を販売中

SEMITOOL Equinoxは、高精度マイクロエレクトロニクス部品を製造するためのフォトレジスト加工装置です。高度なレーザースキャニングシステムを使用して、製品ごとにフォトレジストマスクを作成します。フォトレジストをシリコン、金属、半導体材料などの基板上に選択的にパターン化することで、0。5〜25ミクロンの微細ライン形状を製造することができます。Equinoxは独自のレーザーリソグラフィ技術を使用しています。選択したレーザー波長とフォトレジストの種類は、製品の一貫性と精度を確保しながら、プロセス中のライン幅の変化を最小限に抑えるために調整することができます。基板のパターニングは、13。5nmの直径のレーザーで行われ、ファインフォトレジスト分解能が得られます。レーザースキャン光学系は、その位置を登録し、パターンが描画されます。パターンは、このマシンでX、 Y、またはZ軸の方向に移動することができます。SEMITOOL Equinoxは、高精度マイクロエレクトロニクス部品の製造に使用されるフォトリソグラフィープロセスに費用対効果の高いソリューションを提供します。その信頼性と再現性は、マイクロエレクトロニクス業界で非常に貴重なツールです。ユーザーは簡単に任意のパラメータを入力することができ、レーザースキャナーは最小限の時間で正確に設計をレンダリングします。また、フォトレジストの蒸着変動を低減する熱制御技術を搭載し、表面の非常に高い密度を実現しています。表面平坦性を向上させるために、Equinoxツールはポストデポジションエッチングにも使用できます。このプロセスは、活発で均一なレジスト層を提供し、パターンの崩壊を排除することによって平面化を作成するのに役立ちます。最後に、アセットには複数のフォトレジストプロファイルモニターとコントロールオプションが装備されており、最適な最終製品のために、プロセス中およびプロセス後にレジストの粘度が維持されるようにします。SEMITOOL Equinoxは、マイクロエレクトロニクス業界でフォトレジストマスクやパターンを作成するための優れた選択肢です。製品ベースのマスキング、さまざまなモデルパラメータ、高解像度機能により、多くの製造プロセスに適したツールとなります。