中古 SEMITOOL 470S/L #9099016 を販売中

SEMITOOL 470S/L Photoresist Equipmentは、半導体産業における半導体ウェーハの加工に使用される信頼性と費用対効果の高いツールです。乾燥・セミウェット加工を採用したレジスト加工システムシリーズです。この470S/Lは汎用性が高く、従来のウェーハ処理と特殊なウェーハ処理の両方を幅広いお客様の要求に応えることができます。R環境とD環境の両方で使用できるように設計されています。このユニットは、ほとんどの1室と2室のリミキシングバスとの互換性、迅速で簡単なウエハハンドリング、および完全に自動化された温度およびスピン速度制御を含む多数の機能を提供します。470S/Lは1000 nmまでのフィルム厚さ制御を提供する強力なリソグラフィ機械です。精密に設計されたウェーハ保持機構により、ウェーハ表面のレジストを均一に分散させることができ、高度なホットプレート技術により、高速で正確で再現性のあるウェーハレベリングが可能です。ホットプレートの温度は300 Cまで調整可能で、正確なウェーハアライメントを提供します。さらに、470S/Lは、ウェットエッチングとスピンオーブン機能のためのトップダウンスピンオプションを備えています。このツールは、高速プロセスサイクルタイム（<20秒）で高い生産性スループットを実現し、ホットプレートとスピンベークの両方のオートメーションを使用して、目標温度に到達するための迅速な時間を提供します。これらの機能により、アセットは少量生産テストに適しており、多くのお客様は、迅速で正確なプロセスサイクルを開発するための重要なプロセス時間であることを発見しました。このモデルは非常に信頼性が高く、メンテナンス要件が低く、機器のダウンタイムを最小限に抑えることができます。プロセス制御と操作操作に優れているため、機器の修理にかかるコストと時間が削減されます。470S/Lは、液体廃棄物ビンやトップダウン型スピン安全など、さまざまな安全機能も備えています。この470S/Lは、半導体ウェーハ製造のための貴重なツールであり、大幅なコスト削減を提供することができます。高精度のエンジニアリングと強力なプロセス制御オプション、および高性能および低メンテナンス要件により、大量生産に適しているだけでなく、研究開発にも信頼性と費用対効果の高いソリューションを提供します。