中古 SEMITOOL 430S-5-1-ML-WP #9178866 を販売中

SEMITOOL 430S-5-1-ML-WP Photoresist Equipmentは、フォトレジスト材料を適用するための完全に自動化された統合された化学および処理ユニットです。1セッションにつき最大5個の115mmウェーハを処理可能です。この機械には、外部の化学供給キャビネット、ユーザー制御のプログラム可能な大気制御、RF発電機、PR噴霧ステーション、および急速な熱硬化システムを含む一連の独立したプログラム可能なプロセスチャンバーが装備されており、それらはすべて完全に機能する処理ユニットを作成するために一緒にインストールされています。フォトレジストプロセスは、ウェーハの表面を前処理するために設定された前処理チャンバーから始まります。これは、レジスト材料の適用前に存在する可能性のある粒子、酸化物、および/または汚染物を除去するためにウェーハを洗浄する必要があります。プリトレーティングチャンバーは、基材の種類に応じてフォトレジストの最大接着を達成するために、さまざまな洗浄液とエッチング剤の化学制御と精密な配信を提供します。フォトレジストは、その後、PRスプレーステーションのウェーハにスプレーされます。噴霧ステーションには、モーター式の精密スプレーヤー、可変周波数RFジェネレータ、およびレジストフィルムの乾燥時間をより良く制御するために外部ヒーターと組み合わせることができる加熱空気乾燥チャンバーがあります。RFジェネレータは、フォトレジストの蒸着を均一に制御するために使用されます。フォトレジストを塗布して乾燥させると、ウェハは急速熱硬化（RTC）ユニットに転送されます。このユニットには、ヒーターユニットが内蔵されており、硬化プロセスを正確に制御するための調整可能なタイミングプログラムを備えたシングルチャンバーが装備されています。RTCマシンは、アプリケーションごとにウェーハの温度を正確に調整するために動作します。硬化プロセスが完了すると、ウェーハは治癒後のチャンバーに移動され、フィルムの完全性を高めるために必要なときに追加の加熱または乾燥サイクルを提供することができます。フォトレジストツール430S-5-1-ML-WP、フォトレジストプロセスの各ステップごとにステップバイステップの明確な指示を備えた、直感的でユーザーフレンドリーなアーキテクチャを備えています。独立したプロセスチャンバーを統合し、洗浄薬品、レジストフィルム、硬化時間を正確に提供することで、ハイエンドのフォトリソグラフィ用途に最適です。