中古 SEMITOOL 280 #101472 を販売中

SEMITOOL 280 Photoresist Equipmentは、先進的な半導体デバイス製造向けの次世代リソグラフィープラットフォームです。このシステムは、高解像度のイメージングと超高精度のレジスト開発を提供し、最先端の電子部品の生産をサポートするように設計されています。280は、レジスト処理に一般的に使用される従来の光学露光システムではなく、電子ビーム露光ユニットを使用しています。これにより、レジストパターンとデバイス構造をより正確に制御でき、光学系と比較して優れた性能を発揮します。さらに、電子ビーム露光機は非常に大きなダイナミックレンジを備えており、基板全体にわたるさまざまなサイズの特徴をイメージすることができます。また、電子ビーム露光ツールを使用することで、アスペクト比が高くなり、フィーチャーパターニングがµmされます。その結果、出力画像は最高品質で忠実です。このアセットには、自動レジスト開発モデルも搭載されており、再現性のある正確な膜厚と材料除去が可能です。SEMITOOL 280には特許取得済みのスピンオンレジストコーティング技術が含まれており、基板の高速かつ均一なコーティングが可能です。これにより、基板内での正確で反復可能なデバイス機能のサイジングと配置が可能になります。さらに、複数の基板を積み降ろすことができ、複雑な装置の大規模生産が可能です。280のデータ処理および制御機能は、システムのもう一つの利点です。ソフトウェアは、ユニットの統合と制御だけでなく、欠陥検出と修正のために提供されています。このソフトウェアは、画像取得からコーティング抵抗、露出抵抗、開発、基板上のフィーチャー配置までのプロセス全体を管理するために使用されます。このソフトウェアは、プロセスの各ステップを最適化するために、必要に応じて露出および開発パラメータを調整することができます。全体として、SEMITOOL 280フォトレジストマシンは、高度な半導体デバイスの大量生産を目的とした強力で汎用性の高いツールです。電子ビーム露光ツール、自動化されたレジスト開発およびデータ処理機能により、280は従来の光学資産と比較して優れた結果をもたらす正確で反復可能なレジスト処理を提供します。