中古 SEMITOOL 270D #9113800 を販売中

SEMITOOL 270Dは半導体製造のために設計された完全に自動化されたフォトレジスト装置です。300mmまでのプロセスウェーハに対応できるように特別に設計されており、プログラマブルパラメータを備えた4、5、または8プロセスパイプラインが可能です。このシステムには、高度なPLCコントローラと自動構成機能が装備されており、正確なプロセス制御と歩留まりの最適化を保証します。また、従来の方法よりも正確にウェーハを配置する洗練されたCASSETTE®ウェーハピッキングトランスポートユニットも含まれています。さらに、このマシンは、ウェーハ処理中にきれいで汚染されていない環境を提供します。270Dには最先端のγ -rayビームソースのimage-exposerが装備されています。焦点、線量、被写界深度、装置フィールドのサイズと形状、アライメント公差など、さまざまな露出パラメータを提供します。乾燥した環境のウェーハは、放射線にさらされて所望のパターンと画像を形成します。画像露出精度は10 μ mピッチ以内、登録精度は0。3 μ mです。また、GPU （Geometry Processing Unit）を搭載し、サブリゾリューション機能や多周波露光などの高度なリソグラフィースキャンおよびパターニング技術を可能にします。完全に自動化されたプロセスアセットには、洗浄、開発、フォトレジストストリッピング、フロートバルブ薬品配送、コンディショニング用の高度なプロセスモジュールも含まれています。プロセスチャンバーは、汚染物質を含まないクリーンな環境を提供し、プロセスレシピパラメータを監視するための高度なロギング機能を備えています。厚さ測定ex-situは、リアルタイムのチャンバー内厚さモニターによっても容易になります。その他にも、接着層の高速TN成膜モデル、表面汚染制御を一体化した自動薄膜成膜制御、リアルタイムプラズマ監視などがあります。SEMITOOL 270Dフォトレジスト装置は、半導体の製造において信頼性が高く効率的なソリューションです。プロセスの一貫性と制御性に優れ、信頼性の高いウェーハスループットを提供します。特に、MEMS、マイクロエレクトロニクス、オプトエレクトロニクスなどの業界における大量生産アプリケーションの厳しい要件を満たすように設計されています。