中古 SEMITOOL 270 #200803 を販売中

SEMITOOL 270 Photoresist Equipmentは、高度なウェットクリーン技術と高度なLCDディスプレイを組み合わせ、フォトリソグラフィの分野で比類のないパフォーマンスを提供します。このシステムは、非常に薄いフォトレジスト層を正確な精度と均一性で処理するように設計されており、非常に細い線幅と特徴サイズのウェーハを製造することができます。270ユニットは、フォトレジスト層からの汚染物質を穏やかに溶解するために溶媒を使用する湿式クリーンプロセスの周りに構築されています。この高効率なマシンは、自動的に各サイクル間の基板を洗浄し、フォトレジストが安定して動作全体を均一に保つことを確認します。LCDディスプレイを使用すると、プロセス全体で正確なフォトレジストの厚さレベルを表示および監視することができ、制御の追加レベルを提供します。SEMITOOL 270には、エッジビーズの除去、エッチバック、露出後のベークの強化などの高度なプロセスも含まれています。基板のエッジに沿って非均一性を防ぐため、フォトレジストを使用する場合、エッジビーズの除去が特に重要です。エッチバックは、ウェーハの上部から不要なレイヤーを選択的に除去するために実行されます。最後に、露出後のベーク相を使用して、フォトレジストを基板に結合させ、リフトオフやその他の問題を防止します。全体的に、270フォトレジストツールは、簡単で信頼性の高いリソグラフィ処理方法を探しているあらゆる施設に最適です。このアセットは、フォトレジストの厚さレベルを完全に制御し、均一性と精度を保証します。高度なプロセスと液晶ディスプレイにより、製造メーカーは非常に細かい線幅と特徴サイズのウェーハを製造することができます。このモデルはまた、低コストで運用コストと低アップフロントコストで、費用対効果が高いです。