中古 SEMICON LHB-3100 #9117937 を販売中

SEMICON LHB-3100は、高度なIC製造のためのフォトリソグラフィープロセスで使用される高精度フォトレジスト装置です。このシステムは、パターンを基板に転送してIC部品の構造を形成するために使用されるエッチング抵抗性の感光マスクを作成するために使用されます。LHB-3100の主な構成要素は、高解像度イメージングユニット、レジスト層コーティング機、レジスト開発ツールです。イメージングアセットは、投影レンズを使用して、目的のパターンを基板に詳細に投影します。レジストコーティングモデルは、光によって露出されるように設計されたフォトレジストの薄い層で基板をコーティングします。レジスト開発装置は、専門の開発者を使用してレジストマスクの露出領域を選択的にエッチングし、露出していない領域をそのままにしてエッチング抵抗保護マスクを形成します。SEMICON LHB-3100は、高解像度イメージングシステムで最大0。8 µmの最小機能サイズを実現できるため、高度なIC製造のニーズに対応するように設計されています。また、最大15ラインペア/ミリメートルの優れた解像度を提供し、鮮明なレベルの画像解像度と生成されたパターンに対する優れた制御を提供します。さらに、このユニットは最大300ミリ秒の露出時間を可能にし、露出後の遅延を排除します。そのレジストコーティングと開発システムは、微小欠陥を低減し、精度を確保するのに役立ちます。LHB-3100はまた、基板の自動ロード/アンロード、最適化されたオーバーレイ登録、自動フォーカス診断など、高度なIC製造のための優れた機能も提供しています。さらに、そのプロセス制御ウィンドウは、簡単なプロセス追跡とモニタリングを提供します。全体として、SEMICON LHB-3100はIC製造用の優れたフォトレジストマシンであり、高解像度と高精度、優れた性能、信頼性の高いプログラミングで優れた画像品質を提供します。次世代のIC製造に欠かせないハイエンドな技術力で構築されており、堅牢で正確なフォトリソグラフィーツールを求めるICメーカーに最適です。