中古 SEMES STH5320H #9298975 を販売中

SEMES STH5320Hは、マイクロエレクトロニクス機器の製造に使用される最先端のフォトレジスト機器です。このシステムは、フォトレジストフィルムの露出した領域をエネルギー源にさらすための光源と、ウェハステージ、スピナー、ガスマニホールド、排気ユニットなどのさまざまなコンポーネントの製造に使用される他の機器で構成されています。乾燥フィルムや液体フィルムなど様々なフォトレジストを加工することができ、厚みや表面処理が可能です。この洗練されたツールは、フォトレジストの必要な部分だけが露出して開発され、より正確で正確なマイクロエレクトロニクス部品が得られるようにするのに役立ちます。アセットの主な構成要素は、光源、エネルギー源、およびウェーハ段階です。光源は通常紫外線光源であり、フォトレジストのフィルムが露出している。この光源は、使用されるフォトレジストの種類とフィルムの厚さに応じて適切な露出が達成されるように、強度を変化させることができます。エネルギー源は一般的に真空源であり、真空範囲は0。5-10 Torrである。フォトレジストの表面から空気分子を除去するためには、強い真空が必要であり、フィルムの露出部分が発達する。エネルギー源とともに、モデルには開発プロセスの制御レベルを提供するガス多様体も含まれています。ウェーハステージにより、処理サイクル中にフォトレジストウェーハを正確に移動させることができます。ステージは、ウェハが光源を横切って移動し、滑らかで均一な露出を提供することを可能にします。これらのステージには、再現性のある高精度な位置制御が装備されており、正確なエッチングと露出結果を得ることができます。望ましい露出が達成されれば、開発されたフォトレジストのウエハーを塗り、ウエハーに均一に抵抗を分散させるのにスピナーが使用されます。この装置には、適切な空気循環を確保し、フォトレジスト処理サイクル中に作成された有害な発煙や蒸気を除去するための調整可能な排気システムも内蔵されています。このユニットはまた、フォトレジストの処理領域で一定の温度を維持し、フォトレジストの開発に最適な条件を維持するのに役立ちます。要するに、STH5320Hはマイクロエレクトロニクスデバイスの製造のために設計された強力なフォトレジストマシンです。このツールは、さまざまな厚さと表面処理で、さまざまなフォトレジストフィルムを正確かつ正確に露出することができます。このアセットには、光源、エネルギー源、ガスマニホールド、ウェーハステージ、スピナー、排気モデルが含まれ、すべてが適切なフォトレジストの開発とウェーハ上のフォトレジストの均一な適用を保証するように設計されています。さらに、装置は最適な空気循環および温度のために調節することができ安全な、調整された労働環境を提供します。