中古 SEMES Semhawk #9302263 を販売中

SEMES Semhawkは、複雑で高解像度の集積回路の製造を可能にするために設計された次世代フォトレジスト機器です。このシステムは、極端な紫外線と呼ばれる高いエネルギービームを利用して、シャープでハイコントラストな画像を作成することに優れています。これは、伝統的なフォトレジストユニットではできない分子を分解することを可能にする、光ビームの非常にエネルギッシュな性質によるものです。スピードと生産性の組み合わせにより、これまで実現できなかった複雑なマイクロエレクトロニクスの生産が可能になりました。機械の中核には、コールドフィールドエミッション（CFE）とスペクタクルレンズ（SLM）を備えた電子ビームガンがあり、リソグラフィに使用される電磁放射の生成と操作を可能にします。UVレーザーは、CFEの制御とアライメントに使用されます。次に、CFEは紫外線ビームをレジストコーティングされた表面に方向付け、変調します。このレジストは、紫外線によって選択的に溶融され、/または硬化され、表面に画像を生成します。Semhawkは高度に統合されており、処理中にレジストを急速に加熱して冷却することによってフォトレジストを損傷から保護する急速熱処理ユニットのような機能が含まれています。このツールには、真空チャンバー、電極、検出器も装備されており、フォトレジスト層の画像を正確に形成するために必要な強烈な真空を生成することができます。このアセットは耐久性と効率性に優れており、耐摩耗性と耐熱性のコンポーネントを含めることで、過酷な紫外線やプロセス環境への曝露に耐えることができます。高密度部品、配線性、耐熱性により、優れた品質と精度の画像を生成することができます。このモデルは、180ナノメートルのサイズのフィーチャーサイズを生成し、最大8層の露出とウェーハスタッキングをサポートします。堅牢な性質に加えて、ユーザーが画像を最適化し、パターン欠陥のリスクを減らすことができる自動パターン認識モジュールのような機能が装備されています。このシステムはまた、より高い精度のために組み込みの自動露出とフォーカス制御を利用します。このフォトレジストユニットは、幅広い機能と利点を備えており、高いコントラスト、クリーンな表面、パターン欠陥を最小限に抑えた画像を作成できるツールをお探しのお客様に最適です。