中古 SEMES KWET 300 #9241265 を販売中

SEMES KWET 300は、半導体等の電子材料の費用対効果と高精度パターニングを可能にするフォトレジストシステムです。これはさまざまなコンポーネントで構成されており、ユーザーが基板の露出レベルを制御し、微細なラインやその他のパターンでパターン化できるように設計されています。主なコンポーネントは、露光源、基板ホルダー、一連の光学フィルター、光シールドプレート、パターンジェネレータです。露光源は通常、超紫色ランプのような高輝度の光源で、短く制御された光パルスを生成します。光は光フィルターと光シールドプレートによって反射され、基板ホルダーにパターンを鋳造します。基板ホルダーは、露光プロセス中に選択したデバイスを保持し、正確に見つけるように設計されています。ホルダーは通常、光の通過を容易にする光学的に透明な材料で構成されており、しばしばエッチングまたはパターニング材料でコーティングされて基板の位置をさらに制御します。光学フィルターはシステムの重要な部分です。これらは、光源の強度を低減し、不可欠でない領域への光の拡散を最小限に抑えるように設計されています。これにより、露光プロセスによって生成されるパターンがより正確であり、基板の不要な部分がパターン化されないことが保証されます。遮光プレートは、露光プロセスによって生成されたパターンが外部光源の影響を受けないことを保証します。それは効果的に基質に損傷を与えないで不必要なライトを吸収し、妨げる特別な黒い材料から成っています。最後に、パターンジェネレータを使用して、基板上に特定のパターンを作成します。通常、スピニングホイールまたはモーター式マスクで構成され、定義済みのパターンを素早く正確に循環させます。これはパターニングプロセスの最後のステップであり、最終結果の一貫性を確保するために使用されます。これらのすべてのコンポーネントは、費用対効果の高い正確なパターニングプロセスを作成するために共同で動作します。KWET 300は、半導体デバイスの製造、接触切断、ウェハプロービング、計測などの用途に最適です。様々な素材の高精度パターニングをお探しの方にとって貴重なツールです。