中古 SCHNEIDER DHC20 #9379799 を販売中
URL がコピーされました!
タップしてズーム
ID: 9379799
ヴィンテージ: 2016
Dip coater
Throughput: (20) Lenses / Hour
Automated fast 2-Axis handling
Compact three double-stage cleaning process
Semi automatic fill and level control on tanks
Sliding lid over all coating tanks
Primer stage for polycarbonate lenses
Integrated fire extinguishing system
Ultrasonic cleaning tanks
Hard coating system
With heating and ultrasound
(3) Lacquer tanks
Pre-curing infra-red ovens
Built-in DI water production with conductivity control
Absolute (HEPA) air filter
Comprehensive multistage
Thermal cune clip
Printing stage
(2) Lacquers
(3) Coating tank
ROBOT Handing
Solvent top-up
SCHNEIDER CM / Beckholf control system
Capacity: (20) Lens
Accessories included
2016 vintage.
シュナイダーDHC20フォトレジスト装置は、集積回路（IC）の製造に使用される高度なツールです。有機材料の精密パターンフィルムを半導体基板に移すウェットケミカルプロセスです。フォトレジストシステムは、開発者、フォトレジストマスク、基板、フォトレジスト材料など、いくつかのコンポーネントで構成されています。開発者はフォトレジスト材料のソリューションを作成し、基板に適用することができます。その後、フォトレジストマスクを基板上に置き、フォトレジスト材料を集中光源にさらします。このプロセスは、目的のパターンを基板に転送します。フォトレジスト材料を基板に移すと、処理が完了します。処理フェーズは、IC設計の所望のパターンを達成するために、一連のステップを伴います。これには、フォトレジスト材料を焼き、それを「開発者」と呼ばれる化学物質に浸し、基板をエッチングすることが含まれます。ベーキング工程では、フォトレジスト材料の構造が変化し、エッチングに対する耐性が向上します。開発者は、フォトレジスト材料の露出部分を除去するのに役立ち、IC設計のパターンを達成することができます。このエチャントは、IC設計の所望のパターンを残して、基板の不要な部分を除去するために使用されます。最後に、フォトマスクを使用して目的のパターンを基板に転送するためにフォトレジストユニットを使用します。このフォトマスクは高輝度光源にさらされ、希望するパターンをフォトマスクから基板にさらに転送します。結論として、フォトレジストマシンDHC20 ICの製造に使用される高度なツールです。有機材料の精密パターンフィルムを半導体基板に移すウェットケミカルプロセスです。フォトレジストツールは、開発者、フォトレジストマスク、基板、フォトレジスト材料など、いくつかのコンポーネントで構成されています。このアセットは、IC設計の所望のパターンを達成するために開発、ベーキング、エッチング工程と並行して使用されます。
まだレビューはありません