中古 SANYU SC-701C #201213 を販売中

SANYU SC-701C
製造業者
SANYU
モデル
SC-701C
ID: 201213
Sputtering system with cryogenic stage Manufactured for large-chambered JEOL 5000 or 6000-series microscopes Sputter coat and freeze specimens immediately before load-lock Carbon holder Cartridge type Number of coatings One to nineteen Coating time 0.3sec/1time Carbon 5mm dia.Five pieces made by SANYU ELECTRON provided Chamber size 160mm dia.x160mm in depth Electrodes One pair Current MAX. 70A, 12V Input power 100V, 15A, 50Hz/60Hz Evacuation system Rotary pump. 100l/min Vacuum degree 10-3 Torr Sub-systems: Bio-Rad Crytrans Controller Bio-Rad E7400 Sputtering or Evaporation Module Maxtek Thickness Monitor Hexland Temperature Control Dual pumped vacuum system.
SANYU SC-701Cは、UVからX線リソグラフィまで、幅広い用途向けに設計された高精度フォトレジスト機器です。フォトレジストは、半導体ウェーハに回路パターンをエッチングして転送するために使用される絶縁材料です。光をパターン化した化学反応に変換し、基板上に希望のパターンを作成することができる光感受性コーティングを備えています。SC-701Cは、コンパクトなパッケージで優れたパフォーマンスと汎用性をユーザーに提供するように設計されています。高解像度プロジェクターとボーダー強化システムを内蔵しており、画像精度を高めています。デュアルトラック回転ユニットは、露出をより大きく制御するために5度の傾きで均一な露出を提供します。機械はまた十分にコンピュータ化されたコントロールパネル、自動焦点および調節可能な露出時間を特色にします。SANYU SC-701Cは、1 µmまでの画像セル解像度で、非常に精密なパターンを生成することができます。フォトレジスト材料やエッチングソリューションに幅広く対応しており、シリコンやヒ素ガリウムなどの半導体材料のエッチングにも使用できます。このツールは、大手メーカーの最新のレジストを使用することも認定されています。SC-701Cは操作とメンテナンスが簡単で、汎用性の高いフォトマスキングのニーズに最適です。高解像度プロジェクター、自動焦点、調整可能な露出時間により、SEMIおよびJEDEC規格のフォトマスクを迅速かつ正確に作成できます。従来のPMMAレジストと正と負の両方のプロセスに対応しているため、エッチングや転送などの製造プロセスの幅広い用途に適しています。また、コンパクトな設計により、狭いスペースや高入力生産動作でも使いやすくなっています。SANYU SC-701Cは、優れた性能、汎用性、精度を提供し、幅広い用途で使用するための理想的なフォトレジスト資産です。高度な機能により、正確なパターンを簡単に作成でき、時間やプロジェクターの露出を制御できます。このモデルは、複雑で厳格なフォトマスキングのニーズに理想的なソリューションを提供するため、あらゆる生産現場に貴重な追加を行います。
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