中古 RHETECH STI 280 #17375 を販売中
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ID: 17375
ウェーハサイズ: 6", 8"
ヴィンテージ: 1999
Automatic system (Stacker) for DI spin & dry N2 process design for 6" & 8" wafers
Full control
1999 vintage.
RHETECH STI 280は、RHETECH Technologiesが開発したフォトレジスト機器です。関連するソフトウェア、ハードウェア、消耗品を含む完全なシステムです。ユニットは、プロジェクションアセンブリ、UVソース、および光に敏感なマスクで構成されています。プロジェクションアセンブリは、光に敏感なマスクの複数の層を可能にする3アパーチャ設計を持っています。UVソースは、マスク上の影の画像を生成するために使用することができ、強烈なUV光の最大5ワットを提供します。マスク材料は紫外線に敏感な非常に専門にされた、一貫した、安定したポリマーです。マスクは、同じ性能で複数回使用するように設計されています。紫外線にさらされると、マスクの露出された領域は不溶性で非反応性になり、エッチングが容易になります。機械に関連するソフトウェアは強力で直感的で、イメージングプロセスの設計エントリ、検証、シミュレーションを可能にします。ソフトウェアはまた、画像処理を検証するために、設計全体のリアルタイムプレビューを提供することができます。このリアルタイムプレビュー機能を使用すると、パラメーターを調整してイメージング結果を改善できます。ソフトウェアはまた、自動パターン生成を可能にします。これにより、フォトマスクの設計に要する時間を短縮し、生成されるパターンの精度を向上させることができます。用具のための消耗品は露出および開発のために使用される軽い敏感なマスクを含んでいます。マスクは最適な光学性能と接着強度を持つように設計されています。パフォーマンスを最適化するためには、特定のソース強度用に設計されたフィルムの使用、非接触処理技術の採用、アプリケーションに適した液体開発ソリューションの使用など、推奨されるプロセス標準に従う必要があります。STI 280は、中小規模の生産に費用対効果の高い効率的なソリューションを提供する高度なフォトレジスト資産です。その高性能とユーザーフレンドリーなデザインは、フォトリソグラフィ、プリンタパターン、回路基板などのアプリケーションに最適です。汎用性の高い設計により、幅広いイメージング用途に適しています。
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