中古 PVA Delta 6 #293804920 を販売中

PVAデルタ6は、シリコン、ガラス、石英などのさまざまな表面に高解像度のパターンを生成するために設計された負のフォトレジストシステムです。それは標準的な事前沈殿および開発の技術と共に使用されるように設計されています。この材料は、ポリマー系の陰性フォトレジストで構成されており、紫外線（UV）光への曝露に反応し、露出領域に化学変化をもたらします。標準的な形では、デルタ6は、基板にスピンコートフィルムとして適用される粘性液体であり、基板上にスクリーニングされ、またはresistivelyパターン化されたフィルムとして適用されます。適用の後で、抵抗はパターン化されたマスクを通して紫外線にさらされます。紫外線の露出の強度そしてサイズは否定的な抵抗の化学応答を定め、高分解能の機能を提供します。露出した領域は開発者により溶解性が高くなり、露出していない領域（保護領域）は溶解性を維持します。露出されると、基板は適切な液体開発者で開発されます。これにより、レジストの露出領域が除去され、基板の元の表面がさらなる処理の準備ができるようになります。完了すると、基板はパターンの安定性を維持するために熱処理され、さらにレジストを硬化させることができます。PVA Delta 6を使用する利点は、フォトレジストが非常に高い解像度でパターンを作成することを提供し、その感度は非常に小さな機能を作成することができます。また、各種基板への接着性に優れ、標準の剥離溶剤で簡単に除去できます。したがって、デルタ6フォトレジストシステムは、さまざまな表面に高解像度のパターンを作成するための信頼性の高い方法を提供し、高エッチングとプロセスの互換性を提供します。それは使いやすく、すばやく正確に露出することができ、製造、乾燥したおよびぬれたクリーン操作、また終わりgの間に堅牢な性能を提供します