中古 PVA 2000 #9293852 を販売中

PVA 2000は、高スループットのフォトリソグラフィ用途に特化したフォトレジスト機器です。これは、従来のフォトレジスト材料に代わるより信頼性が高く、一貫性のあるフォトレジストシステムです。2000年のフォトリソグラフィープロセスは、基板へのパターン転送のためのフォトレジスト材料の使用を含みます。フォトレジストは、基板上にマイクロフィーチャーのパターンを作成するために使用されます。PVA 2000には、化学的安定性を促進し、フォトレジストの故障の可能性を低減するように設計された独自の添加剤が含まれています。また、パターン形成の精度に悪影響を及ぼす残留物を排除することにより、フォトリソグラフィープロセスの効率を向上させます。ユニットの堅牢な製剤は、保護のより大きな層を提供し、全体的なプロセスを強化します。2000年はマイクロ特徴の優秀な決断を提供するために作り出されました。金属、ポリマー、半導体など様々な基板に適しています。マイクロエレクトロニクスに必要なような非常に小さな機能のリソグラフィでは特に有益です。フォトレジストの溶解速度も低く（写真）、幅の小さい機能の信頼性の高いリソグラフィを可能にします。スループットの面では、PVA 2000は、他のフォトレジストシステムと比較して最大3Xのスループット率を向上させ、一貫した反復可能なプロセスを提供するように設計されています。この生産性の向上により、プロセスを半分の時間で完了させることができ、より迅速かつ効率的になります。2000マシンはまた、安全性と環境要件を念頭に設計されています。環境に配慮したプロセスで生産され、VOCが低く、HAPが含まれていません。さらに、このツールはフォトリソグラフィの現在の安全手順と非常に互換性があり、より敏感な環境での理想的な選択肢となります。全体的に、PVA 2000フォトレジスト資産は、リソグラフィ用の信頼性の高い正確なツールを提供します。プロセスの再現性の向上、スループット率の向上、環境安全性の向上、マイクロフィーチャーの解像度の向上を実現します。これにより、正確なパターン転送と微細フィーチャー加工に理想的な選択肢となります。