中古 PURE AIRE UF72AE #9303096 を販売中

PURE AIRE UF72AEフォトレジスト装置は、材料の堆積を制御し、パターン転送の再現性を確保するための高度で費用対効果の高いソリューションです。フォトレジストプロセスでは、半導体ウェーハ内でエッチングウィンドウを定義し、回路パターンを作成するために、レジストのUV露出を使用します。UF72AEは、優れた精度と柔軟性を提供する汎用性の高いフォトレジストシステムです。PURE AIRE UF72AEは、最大200mmのウエハーに対応し、1回の露光で歪みを最小限に抑えます。これは、2つのビームスポットのおかげで、最適なフォーカスにリアルタイムで間隔と調整されています。さらに、UF72AEは、最大の省エネで紫外線の均一な分布を保証する高度な照明ユニットで設計されています。これは、露出プロセスの前にコストを削減するだけでなく、常に高品質の結果を提供するのに役立ちます。その精度を維持するために、PURE AIRE UF72AEは、再現可能な設定のための最新のデジタル制御技術を備えています。UF72AEの微細精密光学部品は、異なるウェーハサイズにわたってフォーカス精度を維持することを保証します。これは複数のフィルタによってさらに強化され、基板の厚さの変化に関係なくパターン転送が再現可能なままです。さらに、PURE AIRE UF72AEは、すべての標準的なフォトレジスト材料と互換性があります。これにより、さまざまなタイプのジョブに素早くセットアップでき、あらゆるタイプの基板に対応できます。さらに、特許取得済みの自動均一露出ツールにより、手動で調整することなく複数のジョブを完了できます。これはすべて、最適なスループットを得るために露出パラメータを常に再調整する内蔵のセンサーのおかげです。結論として、UF72AEは高度で費用対効果の高いフォトレジスト資産です。パターンを正確にエッチングし、複数の基板サイズに最適なフォーカスを維持できるため、あらゆるフォトレジストプロセスに最適なソリューションです。そのデジタル制御技術、柔軟な互換性とオートユニフォーム露出モデルは、パターン転送が再現性と正確であることを保証します。これにより、PURE AIRE UF72AEは、すべてのフォトレジスト用途において信頼性が高く経済的な選択肢となります。