中古 OPTORUN OTFC-1300 #9190582 を販売中
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販売された
ID: 9190582
ヴィンテージ: 2005
IAD Optical thin film coaters
High resolution optical monitor:
HOM1-1
OPTORUN OTM
Wavelength range: 1100nm - 1700nm
Wavelength resolution: 00.8nm
Light value resolution: 0.001%
Light source: Halogen lamp
Power requirements: AC100V ± 10% 50/50Hz
Power consumption: 600VA
Light sensitivity: ± 0.01 (Narrow band pass filter)
Optical system and low noise: ± 0.01%
Shutters:
(2) EB
ION
EB Sources:
L Loop hearth changed to hearth liner
R 24 Points hearth
(2) Plasma tech EB source 270° deflection systems
(2) Monitoring cameras for hearth
Pumping systems:
Qty / Make / Model / Description
(1) / EDWARDS / E2M275+MBP EH1200 X / Mechanical pump
(2) / SHIBAURA / - / Diffusion pumps, 22”
Cold traps:
Make / Model / Description
POLYCOLD / PFC660 / Meissner trap coil
AISIN / - / Super trap cold baffle plate on the DP
Substrate fixture:
Variable speed dome
Hand lifter for mounting substrates
OPTORUN OIS RF Ion source system 170mm diameter
Thickness monitor: INFICON IC5
Vacuum gauge: INFICON VGC023
Process gasses controller: INFICON VCC500
(2) E-Guns
Control:
PC
PLC
Spare shield plates
2005 vintage.
OPTORUN OTFC-1300フォトレジスト装置は、フィルムやウエハの加工において信頼性と効率性を提供します。このフォトレジストシステムを使用すると、基板材料をコンピュータ支援設計（CAD）ユニットによって決定された特定のパターンにさらすことができます。この機械は、マイクロエレクトロニクスリソグラフィの精度と精度に理想的なツールであることを約束します。OPTORUN 1300は、フォトリソグラフィーを利用して基材に希望のパターンを作成します。フォトリソグラフィーには、物質が光にさらされ、物質の特性が何らかの方法で変化することが含まれます。OTFC 1300フォトレジスト投影ツールは、マスクステージと照明アセットを備えた真空チャンバーを使用して、このプロセスを最適化します。マスクステージはCAD設計のフォトマスクを配置し、照明モデルは出力レンズ装置を備えた光源で構成されています。光出力レンズシステムは光源からの光のビームを変化させ、フォトマスクのパターンは光が基材にどのように影響するかに影響を与えます。OPTORUN OTFC 1300にはいくつかの高度な機能があります。真空ユニットを搭載しており、急激な圧力変化による潜在的な損傷を防ぎ、環境変化に迅速に対応します。この機械はまた、光源からの過熱を防ぎ、一貫した正確な性能を確保するために冷却ツールを採用しています。1300は高濃度ゲイン機能を備えており、最小限の損失で光学ビーム密度を高めることができます。最後に、このフォトレジストアセットは自動アライメント技術を提供し、各レイヤーが常に適切にアライメントされるようにします。全体的OTFC-1300、フォトレジストモデルは、基材上の複雑で正確なパターンを作成するための強力なツールです。精度、効率、信頼性に最適化されており、マイクロエレクトロニクスリソグラフィ業界でさまざまなタスクを達成するために最適です。
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