中古 OKK OKK-500M #9153451 を販売中

OKK OKK-500Mは、高精度フォトレジスト機器であり、現代のリトグラフィー技術の進化の大きな一歩です。高度な光学技術、ナノ位置決め精度、オートメーションを組み合わせることで、汎用性の高い使いやすい設計で優れた画像解像度とプロセス安定性を提供します。MEMS、複合半導体、フレックスプリント回路基板などの幅広い用途に適しています。OKK-500Mは12チャネルの多層トレースタッカーを備えたターンキーオートメーションユニットで、大容量の生産のための多層処理を可能にします。それはリアルタイムで均一で精密なフィルム厚さ制御のために設計され、50nmまで小さい特徴サイズおよび幅のために優秀な結果を与えます。その高度なレーザビームスキャン技術は、ドリフトなしで高い再現性と精度で、最大4umのフリップチップ分解能を提供します。OKK OKK-500Mは、高度な適応光学を通じてフォトレジストに印加される光の量を制御するフィールド可変光干渉計（FOI）によってこれを実現します。また、フィルムの均一性を最大限に引き出すイオンビーム蒸着機もあります。簡単な操作のために、このツールには大きなタッチスクリーンインターフェイスが付属しており、強力な30 KHプロセッサが組み込まれています。PID温度制御は、温度勾配の問題を排除し、その非常に効率的な堆積ツールは、粒子の汚染を低減します。このアセットはまた、非接触計測システムをサポートしており、プロセスの起動と監視をより迅速に行うことができます。最後に、OKK-500Mのマルチターゲットハイスループットスキャンモデルは、30nm以下のフォーカスコントロールステッパー解像度で、さまざまなフォトマスク形式を可能にします。これにより、フォトマスク機能の位置決めに最適であり、シーケンシャルプリントが必要な場合の完全な再現性を保証します。これらの機能はすべて、OKK OKK-500M非常に強力なフォトレジスト機器になります。その汎用性、信頼性、費用対効果と高度な精度により、複雑なプロセス要件を持つあらゆる環境に最適です。これは、現代のナノ加工で使用される高度なリソグラフィ技術に最適です。