中古 NTACT nRad #9410379 を販売中

NTACT nRadは、NTACT株式会社が開発したフォトレジスト機器です。この高度なフォトレジストシステムは、パフォーマンス、均一性、および互換性に関する優れた機能を提供します。先進半導体部品、バイオメディカル製品、MEMS （Micro-Electro-Mechanical Systems）の製造に最適です。簡単に言えば、nRadフォトレジストユニットは感光性液体層を使用してパターン化された表面を作成します。液体層が特定の波長の光にさらされた後、露出された層を開発し、金属層の絶縁層として機能することができます。露出された層は、上部のパターン化された層を明らかにします。NTACT nRadマシンは、高度な混合機能を備えたユニークなサスペンション設計を使用しており、大規模な生産プロセスに非常に適しています。懸濁液はまた特定の適用条件によって顧客の必要性を満たすために非常に微調整することができます。このツールは、ナノメートルスケールのフィーチャーサイズを細かく制御することもできます。高度な混合機能と複雑な構造は、所望のフィーチャーサイズと一緒に高度にスケーリングすることができます。これにより、正確なフィーチャーサイズ調整が可能になります。標準的なフォトレジストとは別に、SU8やECP（電気化学重合）などの高度なレジストケミストリーを使用することもできます。また、イオンビームエッチングやレーザー加工などの高度な技術との優れた互換性を提供します。このモデルはまた、均一性と解像度の面で優れた性能を提供します。NRadの装置は0。6ミクロンの最低特徴サイズ、0。1ミクロンのライン幅の調節可能性および+/-0。005ミクロンの均等性があります。NTACT nRadフォトレジストシステムは非常に効率的で、リーズナブルなコストで優れた性能を提供します。この高度なフォトレジストユニットは、優れた精度と効率で半導体基板、バイオメディカル製品、およびMEMS部品の製造に使用できます。