中古 NEXX SYSTEMS Stratus 200 #9395646 を販売中

NEXX SYSTEMS Stratus 200 Photoresist Equipmentは、高解像度の高精度デバイスを製造するための最先端のツールです。このシステムは、複雑なデバイスや有機部品の大量生産のために設計されています。高精度なフォトレジスト露光用のフォトイメージングユニットと高精度のロボットリソグラフィーマシンで構成されています。Stratus 200 Photoresist Toolには、フォトマスキング用の高度なアセットが付属しています。フォトリソグラフィ用のフォトマスクのパターンを利用したモデルです。フォトマスクは、ガラス板を光にさらしてフォトレジストを露出させることによって作られています。その後、マスクはフォトレジストのエマルジョンを基板の表面に密封します。これにより、フォトレジスト内の形状やパターンを形成しながらフォトレジスト原料を露出させることができます。NEXX SYSTEMS Stratus 200フォトレジスト装置は、非常に詳細で正確な形状やパターンを作成する機能を備えています。これは、フォトレジストのすべての詳細と輪郭をキャプチャできる高解像度のイメージングアレイによるものです。また、高精度のロボットリソグラフィーシステムを使用して、パターンが正確で一貫していることを確認します。さらに、Stratus 200フォトレジストユニットには、高度で自動化された精密制御機も装備されています。このツールを使用すると、露光プロセス中のビームの動きと焦点を正確に監視および制御できます。これにより、フォトレジストが正確かつ一貫性のある露出を保証します。さらに、NEXX SYSTEMS Stratus 200 Photoresist Assetには、完全に自動化された高速プロセス制御モデルも付属しています。本装置は、フォトレジスト材料を高速かつ高精度で効率的に処理し、高解像度の精密デバイスを迅速に製造し、ミスやエラーの発生を最小限に抑えることができます。Stratus 200 Photoresist Systemは、高解像度デバイスとコンポーネントを大量生産するための汎用性と信頼性の高いツールです。その高度なフォトマスキングおよびイメージングアレイ、高精度のロボットリソグラフィーユニット、および自動化されたプロセス制御マシンは、最終結果が正確で高品質であることを保証するのに役立ちます。従って、それはあらゆる工程のための完全な用具です。