中古 NANO OPTICS HAZE 2 #293589807 を販売中
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NANO OPTICS HAZE 2は、産業資材大手ハネウェルが開発したフォトレジスト機器です。このシステムは、薄膜成膜、フォトリソグラフィー、およびその他の関連アプリケーションのための使いやすいフォトマスキングプロセスであるように設計されています。このユニットは、独自の波長依存ポリウレタンヘーズフィルタを使用しており、広範囲の波長と強度にわたって一貫した光レベルを提供します。HAZE 2マシンは、ポリウレタンヘーズフィルター、電源、露出制御ユニットの3つのコンポーネントで構成されています。ヘーズフィルターは、光源から放出される紫外線を吸収し、露出の強度を低減するものです。このフィルタは、一貫した薄膜蒸着に不可欠な広範囲の紫外線波長にわたって均一な強度を維持する傾向があります。この電源は、露出制御ユニットとヘーズフィルターに必要な電力を供給します。最後に、露出制御ユニットは、ユーザーがその場で露出設定を調整できるグラフィカルユーザーインターフェイスを備えたマイクロプロセッサで構成されています。NANO OPTICS HAZE 2ツールのもう一つの特徴は、汚染防止設計です。アセットは、ベース、プラットフォーム、モジュラーフードで構成されています。この汚染防止設計は、汚れ、ほこり、またはその他の汚染物質がヘーズフィルターに閉じ込められないようにし、処理される基板上にそれらの方法を作るのに役立ちます。装置全体がフォトマスキングプロセスをより簡単かつ迅速にするように設計されているため、従来のフォトマスキングプロセスではほんの数分の1の時間で薄膜蒸着を行うことができます。さらに、HAZE 2システムによって提供される一貫した露出は、一貫した薄膜蒸着厚を保証し、歩留まりとスループットを向上させます。結論として、NANO OPTICS HAZE 2フォトレジストユニットは、幅広いフォトリソグラフィおよび薄膜蒸着プロセスを迅速かつ正確に実行するための強力で効果的なツールです。コンパクトな設計と汚染防止機能により、信頼性が高く効率的で費用対効果の高いプロセスを探している人にとって理想的な選択肢です。
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