中古 MTI FLEXIFAB #9073864 を販売中

MTI FLEXIFABは、高度な3Dフォトパターニング技術のための超柔軟なイメージング技術を備えたフォトレジストシステムです。フォトレジスト（Photoresist）は、微細加工に使用される光感受性材料で、薄い層の材料を基板に堆積させるために使用されます。FLEXIFABは独自のフォトレジスト素材を使用し、従来のリソグラフィ技術を必要とせずに10nmの解像度で3D構造を作成します。MTI FLEXIFABは、パルスレーザーダイオードやレーザーガンなどの高エネルギー超短波光源を使用して、フォトレジストを所望の形状にパターン化します。特定のフォトレジスト層で作成されたパターンは、シリコン、石英、ガラス基板などの基板に転送することができます。3Dフォトレジストパターンは、3Dフォトパターニングの基礎となり、改良されたマイクロデバイスやMEMSコンポーネントの製造が可能になります。また、FLEXIFABは、複雑なフォトレジスト構造を利用することで、解像度10nm以下の3Dプリント構造を実現します。これにより、超小型マイクロエレクトロニクス部品の製造に特に役立ちます。互いに整列した異なる基板の間でパターンを転送する機能は、制御と精度の大部分を可能にします。フォトレジストパターニングの過程で、画像が露出し、フォトレジストが光源にさらされたフォトレジストを除去するソリューションでフォトレジストが開発されます。このプロセスの結果は、1ナノメートルまでの精度と精度で操作および制御することができる3次元構造の製造です。MTI FLEXIFABは、幅広いマイクロエレクトロニクスおよびMEMSアプリケーションに適しています。超短波長光源によって提供される柔軟性と制御は、集積回路、マイクロ流体システム、およびオプトエレクトロニクスの製造に特に適しています。また、医療用インプラント、センサー、およびその他のマイクロエレクトロメカニカルコンポーネントのプロトタイプの作成にも適しています。FLEXIFABは、10nm以下の解像度で複雑な3Dフォトパターン構造を作成するための理想的なソリューションを提供する、費用対効果の高い信頼性の高いフォトレジストシステムです。超短波長光源によって許容される精度と制御は、改良されたマイクロデバイスとMEMSコンポーネントを製造しようとする人々にとって素晴らしい選択肢です。