中古 MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-18M08J-Se #9280579 を販売中

MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-18M08J-Seは、さまざまな光電子アプリケーションに優れたプロセスの均一性とユーザーフレキシビリティを提供する高性能フォトレジスト機器です。PMMA、 SU-8、 i-lineフォトレジストなど、様々なフォトレジスト層の精密露光を可能にするために最適化されています。MP-18M08J-Seは、フォトレジスト層の同時コーティングと露出を提供し、その結果、転送時間を最小限に抑える2ゾーン搬送ステージを備えています。MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-18M08J-Seは、フォトレジストの正確な露出を容易にするRIE （Reactive Ion Etching）構成を利用しています。MP-18M08J-Seの真空加工室は、適切な大気室圧力を確保するように設計されたフランジで密閉されています。チャンバー入口および出口ポートは、露出プロセス中に一定のN2ガスの流れを確保し、チャンバーから望ましくない残留物を除去し、フォトレジスト形成のための管理された環境を維持するのに役立ちます。小型のフットプリントにより、ラボワークスペースの効率的な使用が可能になり、デリケートなサンプルに対してユーザーの快適性と最大限のプロセス安全性を提供します。MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-18M08J-Seは、5-10 × 10-8 Torrのベースプレッシャーに到達可能な真空機を備えた信頼性の高い真空源を提供します。MP-18M08J-Seの真空ツールはまた、フォトレジスト層への汚染や欠陥を防止することにより、製品の品質を保証します。MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-18M08J-Seの分析機能は、4インチのデュアルウォールチャンバーで強化されています。この機能は、外部光を効果的に遮断し、露出プロセス全体を正確に制御するのに役立ちます。これにより、フォトレジストのさまざまな感受性を備えた厳しい環境条件下でも、優れた均一性を持つ信頼性の高い層を実現します。MP-18M08J-Seの全体的な汎用性と性能により、メンブレンスイッチ製造、マイクロスケールエレクトロニクス、LED製造などの光電子アプリケーションに最適です。また、コンパクトな設計により、研究室、ファブラボ、小規模生産施設などでの使用にも適しています。MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-18M08J-Seは、さまざまな生産基準のニーズを想定して設計されているため、あらゆるフォトレジスト技術に最適です。