中古 MIKASA 1H-D2 #9393317 を販売中

MIKASA 1H-D2は、挑戦的なリソグラフィ用途で優れた性能を提供するために設計された最先端のフォトレジスト機器です。フォトレジストは、集積回路の製造に使用され、リソグラフィープロジェクターを使用して光にさらされている材料です。露出に応じて、レジスト材料は選択的にエッチングされるか、または残り、結果として回路部品の基礎となる複雑なパターンになります。1H-D2は、要求の厳しいフォトリソグラフィーアプリケーションにおいて、従来のフォトレジストと比較して優れたパターニング忠実性を提供します。MIKASA 1H-D2は、光に敏感なレジスト素材とパターンプロセスの2つの主要なコンポーネントで構成されています。光に敏感な材料は、異なる波長の光に反応する様々な添加剤を持つ高分子バインダーで作られています。光源にさらされると、露出されたレジストの部分は硬化し、レジストの未処理の部分は柔らかく保たれます。これにより、コンポーネントやパターンのエッチングが複雑なパターンや構造を生成することができます。1H-D2システムのパターンプロセスは、レジストが露出され、開発され、後処理される一連のステップで構成されています。露光工程では、レジストをリソグラフィ投影レンズ上に置き、レンズを通過する光源にさらされます。露出後、露出時間に応じて、レジストの露出領域が硬化し、柔らかいままの領域は、化学エッチング剤を使用して選択的に除去することができます。このステップの後、化学機械的開発プロセスが行われ、化学的方法と機械的方法を組み合わせてレジストの未処理の部分を除去します。最後に、後処理ステップが行われ、残りのソフトレジストは別の化学的または機械的方法で除去されます。MIKASA 1H-D2フォトレジストユニットを使用する利点は、従来のフォトレジストよりも解像度が向上し、ウェーハの損失と開発時間が減少することです。レジストの解像度が向上することで、パターニングプロセスが改善され、デバイスの製造に伴うコストが削減されます。さらに、ウェーハの損失と開発時間は、レジストの領域を選択的に処理できるため、デバイス設計に不要な領域を排除できます。結論として、1H-D2は、リソグラフィ用途で優れた解像度と性能を提供する最先端のフォトレジストマシンです。この解像度の向上により、デバイスの製造プロセスが改善され、ウェーハの損失と開発時間が減少するため、生産プロセス全体の効率が向上します。