中古 LUNG PIEN LP-1300 EBA #293623142 を販売中
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ID: 293623142
Coating machine
Diameter size: 1300 mm
Fixture size: 1200 mm
Ultimate vacuum: 10^-7 Torr / 10^-5 Pa
Maximum substrate temperature: 350°C
Cooling water flow: 150 Liters/min
Cooling water temperature: 18°C - 25°C
Standard temperature: 20±1°C
Air compressor: 3HP
Air pressure: 6-8 kg / cm²
Grounding resistance: <5 Ohms
Exhaust system:
Rotary pump: 3000 Liters/min
Strengthen pump: 1,500 m³/hour
Diffusion pump: 45,000 liters/sec
Ultra low temperature freezers: -110°C~ - 140°C
Heating system:
Micro heater: 24 kW
Film thickness gauge:
Optical film thickness meter: 380 mm ~ 1050 mm
Quartz film thickness meter: Monolithic sensor head / six sensing head
Evaporation source:
PLASMATECH Electron gun, 6 kW / 10 kW
Resistance heating: 6 kW
Cooling system:
Pressure: 4 kg/cm²
Pressure: 2 kg/cm²
Power supply: 60 kW.
LUNG PIEN LP-1300 EBAシステムは、プリント基板業界で使用するために開発された最新のフォトレジスト技術です。これは、従来の方法で必要とされるわずかな時間で高品質のプリント基板を製造するための効率的で費用対効果の高い機器を提供するように設計されています。EBAシステムLP-1300中核には、液体フォトレジスト(LPR)を使用し、スプレー蒸着プロセスを通じてPCB表面に塗布します。このウェットレジストは、銅の表面に化学的に結合し、目的の成分を正確に配置できる接着層を形成します。露出した銅はエッチングされ、精製され、プリント基板の望ましい最終結果が得られます。LPRは望ましくない材料を容易に混合し、取除きます、それが望ましい形に向かって作動するように精密できれいな表面を可能にします。LUNG PIEN LP-1300 EBAはまた、フォトレジスト層を制御および硬化するための高度なソリューションを提供し、基板への最大の接着性を提供します。高度な紫外線(UV)光源を使用して、回路の各部分を手動で処理することなく、正確かつ迅速にフォトレジストを配置することができます。さらに、EBA LP-1300はレイヤーレジストテクノロジーを備えており、各ビルドで正確な再現性と精度を保証します。この機械はユーザーが他のフォトレジストの処理方法と起こることができる損傷および欠陥の危険を減らす一方で非常に高い品質管理の良質のサーキットボードを作り出すことを可能にします。最後に、LUNG PIEN LP-1300 EBAは、基板に取り付けられたままの余分なフォトレジスト材料を除去するのに役立つ統合クリーニングツールも備えています。このアセットは、統合されたUV光源と組み合わせて、完璧で高精度なプリント基板を保証します。LP-1300 EBAは、プリント基板の設計と製造をよりシンプルで費用対効果の高いものにするように設計されたハイテクなフォトレジスト加工モデルです。LUNG PIEN LP-1300 EBAは、高度な液体フォトレジストと統合された紫外光源を使用して、従来の技術のほんの一部のコストで比類のない精度、再現性、および接着性を備えた高品質の回路基板を製造することができます。
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