中古 LITHOTECH DB-50-W #293605803 を販売中

LITHOTECH DB-50-Wは、マイクロエレクトロニクス製造に使用される高度なリソグラフィやその他の高度なプロセス用に設計された優れたフォトレジスト機器です。複数の部品で構成される総合システムです。これらのコンポーネントは、チップ製造に使用される露光システムからのリソグラフィー化学物質および放射線に対する強力で信頼性の高い保護を生成するために慎重に選択され、配合されています。このユニットには、被曝時に基板上の保護層として使用されるフォトレジストフィルムが含まれています。フィルムは基板上に堆積し、その後、光などの放射線にさらされます。露出されるとき、このフィルムは堅くされ、破片の生産の間にリソグラフィの化学薬品および放射線への露出または他の形態のエネルギーに対して信頼できる保護を提供できます。このマシンには、露光プロセスが完了した後に基板から硬化フォトレジストを除去するために使用される開発ソリューションも含まれています。この開発者ソリューションは、さらに簡単かつ迅速に除去プロセスを作るために加熱または処理することができます。このソリューションは、露光プロセス中に基板上の敏感部品を保護するためにも使用できます。このツールには、最適な保護を提供するためにフォトレジストアセットを最適化するためのさまざまな追加コンポーネントが用意されています。これらのコンポーネントには、帯電防止剤、ライトブロッキング剤、および露光プロセス中に基板を元素から保護する透明ポリマーが含まれます。このモデルには、化学反応の影響から保護することで基板のセキュリティを向上させるように設計された化学薬品も含まれています。化学物質は、それらが敵対的な環境でも有効であり続けることを保証するために処方され、プロセス中に基板上のコンポーネントと反応しません。全体的な装置は、費用対効果が高く、容易に導入できるまま、化学および放射線の両方への曝露から最大限の保護を提供するように設計されています。このシステムはまた、チップ生産の特定のニーズにフォトレジストユニットをカスタマイズする機能を備えており、生産プロセスのフォトレジスト保護をさらに微調整するためにも使用できます。