中古 LITHOTECH CB-50 / D-50 #293605802 を販売中

LITHOTECH CB-50/ D-50 Photoresist Equipmentは、多種多様な半導体材料の高解像度マイクロサーキットパターンを開発するために設計されたターンキーシステムです。取付け、使用することは非常に容易それを広い範囲の適用の使用のために理想的にさせます。このユニットは、コンピュータ制御のステッピングモータを使用して、半導体材料基板の上にフォトレジストマスクを正確に配置します。プログラマブルコントローラはマスクの動きを制御し、マスクの正確な位置決めと基板へのアライメントを可能にします。また、フォトレジストへの基板の正確かつ一貫した露出を確保するために、統合されたデジタルイメージングツールが装備されています。アセットは高解像度モードで動作するように設計されており、生成されるパターンの優れた解像度を提供します。このモデルは、30ミクロン以下の解像度を実現し、さまざまな半導体アプリケーションで最高品質の結果を保証します。CB-50/ D-50機器は、金属粒子フォトレジストと有機フォトレジストの2種類のフォトレジスト材料を使用しています。金属粒子フォトレジストは、重要な相互接続と金属トレースの製造に使用されます。有機フォトレジストは、複雑なラインパターン、フォトマスク、その他の高解像度パターンの製造に使用されます。統合されたイメージングシステムに加えて、単位はまた基質へのフォトレジストの正確な適用のための異なった付属品の範囲を含んでいます。これには、フォトレジストを均等に塗布するための固定スプレーユニット、フォトレジストを基板上に均等に広げるためのスピンコーター、結果を損なう可能性のあるほこりや粒子を確実に除去するためのウェーハプリクリーナーが含まれます。LITHOTECH CB-50/ D-50は、フォトレジストの自動露出と開発も特徴です。これにより、プロセス全体が汚染のない環境で行われており、フォトレジストマシンの性能と精度を損なう可能性があります。CB-50/ D-50ツールは、非常に高精度な結果を提供するように設計された非常に信頼性が高く、汎用性の高いフォトレジスト資産です。直感的な設計と高度な機能により、半導体業界の幅広い用途に最適です。